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隨著光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，清洗工藝在光電產(chǎn)品中是不會缺少的工藝，清洗對產(chǎn)品的質(zhì)量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。如何保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率，且同時保證生產(chǎn)的安全性及生產(chǎn)過程中對環(huán)境的保護(hù)?那么，對使用者來說選擇高潔凈度，且又具有安全、環(huán)保性能的清洗設(shè)備尤為重要，在以往的清洗技術(shù)(化學(xué)清洗和物理清洗)中，很難達(dá)到要求。那在又安全又環(huán)保的前提下，如何*清除物體表面的污物?目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有機(jī)溶劑造成的污染，同時能夠?qū)⑶逑催^程縮短。
紫外臭氧清洗機(jī)是一種采用無接觸方式，在空氣中進(jìn)行且在清洗后不必進(jìn)行干燥。在清洗過程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看，清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)，氣相物質(zhì)被吸附在固體表面，被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子，產(chǎn)物分子解析形成氣相，反應(yīng)殘余物脫離表面。
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