1. 有機污染物的清洗去除

      等離子設備可清除氧化物、氟化物等。Bond Pad在進入下一步工藝流程前，首先需要清除上面的有機物等污染物。在我們設備腔體里，可以通過微波源將通入的工藝氣體離子化，產生的許多離子自由基等可以和污染物質發(fā)生化學反應形成新的可揮發(fā)的分子，從而達到清洗目的。

2. 表面清洗（Mold，WireBond等）

      芯片封裝過程中，在WireBonding前對Bond Pad進行等離子清洗從而提高清潔度，已經是基本必要的流程。通過微波等離子設備清洗后，可以檢查到其所打線的拉力和剪切力得到非常顯著的提高。

3. 表面活化（FlipChip Underfill）

 

      如今，不管是采用一般封裝工藝還是倒裝芯片封裝工藝，在用化合物填充封裝前，都需要對被封裝對象進行等離子清洗。為了提高產品優(yōu)良率，這一步驟已經被業(yè)界認為是必須過程。微波等離子清洗設備可以將芯片封裝前的所有大小表面（包括間隔縫隙），都能按生產要求進行活化和調整。

4. 晶圓表面處理（清洗/活化）

      等離子處理常常被用來優(yōu)化晶圓表面接口條件，能讓接口變得導電或者絕緣。半導體、玻璃、石英，甚至塑料材料都能積極響應等離子的活化反應，從而更好被粘接。