在鍋爐水的治理過程中，對硅的參數要求主要是針對鍋爐及節(jié)能方面。

硅是造成鍋爐及整個系統(tǒng)結垢的主要原因之一，結垢機理如下：

H2SiO3   --->   H+  +  HSiO3-

MgOH+  +  HSiO3-   --->   MgSiO3  +  H2O

    造成結垢的主要原因是：給水中鐵、鋁、硅的化合物含量高，形成硅酸鐵等垢：

     NaSiO3 + Fe3O4 --->  Na2Fe3O4.SiO2↓

    硅酸鹽容易結垢的地方主要為：鍋爐水冷壁、蒸發(fā)器等熱負荷較高的部位。熱負荷較高或水循環(huán)不良的爐管，火側的結垢比背火側嚴重。結垢后對鍋爐拱能系統(tǒng)造成的影響有：造成能源的浪費，容易形成垢下腐蝕，甚至爆管等安全現象。

    防止的方法：降低給水中硅、鋁和其它氧化物含量；提高爐水pH，減小硅酸的溶解攜帶；定期檢測硅酸根含量。

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