蒸發(fā)鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備

來源：沈陽科晶自動化設備有限公司 2024年11月28日 18:15

　　‌蒸發(fā)鍍膜儀‌是一種用于在真空環(huán)境中通過物理氣相沉積技術制備薄膜的設備。它主要用于在各種基材上沉積一層或多層薄膜，廣泛應用于電子、光學、材料科學等領域。

　　蒸發(fā)鍍膜儀是一種用于在基底上制備均勻材料薄膜的設備，通過物理方法產(chǎn)生薄膜材料。其工作原理主要是利用加熱源(如電子束或電阻加熱)將材料加熱至高溫，使其蒸發(fā)并沉積在基底表面上，形成所需的薄膜。

　　工作原理

　　蒸發(fā)鍍膜儀的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術。具體過程包括以下幾個步驟：

　　‌真空環(huán)境‌：使用真空泵將蒸發(fā)室內(nèi)的氣體抽出，創(chuàng)造一個高真空環(huán)境，以避免材料在蒸發(fā)過程中與氣體反應。

　　‌蒸發(fā)源‌：將待鍍材料放置在蒸發(fā)源(如鎢舟或電子束加熱器)上，通過電阻加熱、電子束加熱等方式使材料蒸發(fā)。

　　‌沉積‌：蒸發(fā)的材料在基片上沉積，形成所需的薄膜。

　　特點：

　　電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發(fā)高熔點材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發(fā)速率。

　　被蒸發(fā)材料置于水冷銅坩堝內(nèi)，真空蒸發(fā)鍍膜機可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜。

　　電子束蒸發(fā)粒子動能大，有利于獲得致密、結(jié)合力好的膜層。

　　綜上所述，蒸發(fā)鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備，在多個領域都有廣泛的應用。在選購和維護時，需要充分考慮實際需求和預算。

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