磁光學(xué)橢偏儀(HO-A216MOE-PH)
Holmarc 推出了一種利用 VIS-NIR 波長(zhǎng)的創(chuàng)新型高靈敏度和高磁場(chǎng)光譜橢偏測(cè)量設(shè)備。HOLMARC A216 測(cè)試站提供標(biāo)準(zhǔn)化的測(cè)試解決方案,適
用于各種光學(xué)旋轉(zhuǎn)測(cè)量應(yīng)用。模塊化硬件設(shè)計(jì)允許用戶在磁場(chǎng)和無(wú)磁場(chǎng)條件下自動(dòng)測(cè)量液體、固體和薄膜樣品。專(zhuān)為磁光學(xué)材料研究和測(cè)試而設(shè)計(jì),包括鐵磁和鐵磁薄膜和材料的磁特性分析。測(cè)量包括超薄磁性薄膜和多層膜的磁滯回線、橢圓度測(cè)量、介電材
料薄膜厚度測(cè)量、折射率、Delta 和 psi 測(cè)量等。系統(tǒng)可在極性、縱向和橫向配置下運(yùn)行。
規(guī)格
光源:Spectra 鹵素?zé)?、氘?鹵素?zé)艋螂?/span>
單色儀 : Quasar 300F Czerny-Turner 型
波長(zhǎng)范圍:350 - 900 納米
準(zhǔn)直和聚焦鏡:50 毫米直徑,300 F
光學(xué)光柵:1200 l / mm
光譜色散:2.6 nm / mm
光柵尺寸:50 x 50 毫米
絕對(duì)衍射效率:45 - 65
狹縫寬度:0 ~ 3 mm 連續(xù)可調(diào)
分辨率:0.1 納米
波長(zhǎng)精度:0.2 nm
波長(zhǎng)重復(fù)性:0.1 nm
雜散光:10-3
線性色散的倒數(shù):2.7 毫米
光譜線半寬:0.2 nm @ 586 nm
偏振分析方法:旋轉(zhuǎn)分析方法
ARMS : 步進(jìn)電機(jī)控制自動(dòng)定位
光斑直徑:1 - 5 毫米
薄膜支架 樣品尺寸:1 - 12 mm
(可根據(jù)要求提供定制支架)
比色皿:10 毫米路徑長(zhǎng)度石英比色皿
樣品室選項(xiàng):高/低溫樣品架
樣品進(jìn)樣裝置:步進(jìn)電機(jī)控制自動(dòng)定位系統(tǒng)
電磁單元:PC 控制恒流操作
冷卻方式:水冷
最大磁場(chǎng):1.75 特斯拉 @ 12 毫米磁極間隙
最小磁場(chǎng) 磁場(chǎng)檢測(cè):1 高斯
磁場(chǎng)精確度:± 0.05
磁場(chǎng)檢測(cè):基于霍爾探針(基于 PC 的磁場(chǎng)測(cè)量)
磁場(chǎng)反饋 : 霍爾元件
冷卻器:5 ~ 25°C 冷凍水(用于冷卻電磁鐵)
容量:2 升/分鐘
電磁鐵電源:雙極型(最大 ± 90 V/5A)
電磁鐵電源:2.5 kVA AC 220V 50Hz
控制裝置:1 kVA AC 220V 50Hz
軟件 : Spectra ORMS 軟件
功能
350 - 900 nm 測(cè)量范圍
0.005 度光學(xué)旋轉(zhuǎn)分辨率
全自動(dòng)控制
磁場(chǎng)檢測(cè)和反饋設(shè)備
MOKE 測(cè)量
橢偏測(cè)量
性能
光學(xué)旋轉(zhuǎn)測(cè)量分辨率:± 0.009 度
檢測(cè)靈敏度:0.009 度(透明度大于 20%)。
穩(wěn)定性:0.03 度(透明度大于 20 % 時(shí))。
橢圓度測(cè)量:± 0.01 度。
光學(xué)旋轉(zhuǎn)測(cè)量范圍:± 90 度。
測(cè)量波長(zhǎng)范圍:350 - 900 nm
光譜帶寬:1 納米(可變帶通高達(dá) 10 納米)
最大磁場(chǎng):17,500 高斯
最小磁場(chǎng) 磁場(chǎng)檢測(cè):1 高斯
磁場(chǎng)精確度:± 0.05
測(cè)量項(xiàng)目
或 測(cè)量具有法拉第效應(yīng)的薄膜、晶體、流體等
測(cè)量透明固體和液體的維爾德常數(shù)
法拉第旋轉(zhuǎn)角/橢圓角
極性克爾旋轉(zhuǎn)角/橢圓度角
所需波長(zhǎng)下的磁場(chǎng)與法拉第旋轉(zhuǎn)角特性的關(guān)系
法拉第旋轉(zhuǎn)角 vs. 波長(zhǎng)色散特性
法拉第旋轉(zhuǎn)角與熱依賴(lài)性(可選)
測(cè)量光學(xué)特性
光學(xué)旋轉(zhuǎn)
薄膜厚度
折射率
吸收系數(shù)
光導(dǎo)率
相速度
群指數(shù)
布儒斯特角
空氣折射率
摩爾折射率
光子能量
典型動(dòng)量
動(dòng)量
群速度
PSI - Δ
ε1和2
相關(guān)產(chǎn)品
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