在細(xì)胞培養(yǎng)過程中,支原體污染是一個(gè)常見且棘手的問題。支原體是一種微小的原核生物,其直徑通常在0.1微米左右,這使得它們難以通過常規(guī)的除菌過濾方法(如孔徑為0.22微米的過濾器)被有效去除。支原體污染不僅難以識(shí)別,而且一旦感染細(xì)胞,便難以清除,這對(duì)科學(xué)研究和生物制品生產(chǎn)帶來了諸多挑戰(zhàn)。
支原體污染的隱蔽性
支原體污染之所以難以去除,首要原因在于其隱蔽性。與細(xì)菌和霉菌污染不同,支原體污染通常不會(huì)使培養(yǎng)液迅速變渾濁或產(chǎn)生明顯的細(xì)胞死亡。在顯微鏡下,受支原體污染的細(xì)胞可能看起來很正常,這使得研究人員在初期很難察覺到污染的存在。只有當(dāng)細(xì)胞生長速度減慢、形態(tài)異?;蚺囵B(yǎng)基pH值發(fā)生顯著變化時(shí),才可能懷疑存在支原體污染。然而,此時(shí)污染已經(jīng)對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果產(chǎn)生了負(fù)面影響。
支原體污染的頑固性
支原體污染的另一個(gè)難點(diǎn)在于其頑固性。支原體能夠寄生于細(xì)胞內(nèi)外,并且具有逃避抗生素和支原體清除劑的能力。雖然已有針對(duì)支原體的抗生素和清除劑問世,但這些方法通常只能殺滅細(xì)胞外的支原體。細(xì)胞內(nèi)的支原體顆??梢蕴颖芴幚?,并在細(xì)胞分裂時(shí)重新感染新的細(xì)胞。因此,清除支原體污染幾乎是不可能的,除非是對(duì)不可替代或無法重新獲得的細(xì)胞進(jìn)行特殊處理。
支原體污染的來源廣泛
支原體污染的來源廣泛,這也是其難以去除的一個(gè)重要原因。支原體可以通過多種途徑進(jìn)入細(xì)胞培養(yǎng)物,包括實(shí)驗(yàn)室人員、血清、細(xì)胞培養(yǎng)基、實(shí)驗(yàn)設(shè)備以及不潔凈的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。人為污染是其中最大的污染源,污染物可以通過臟衣服、實(shí)驗(yàn)室服裝、人員講話、打噴嚏等方式傳播。此外,細(xì)胞培養(yǎng)箱、水浴鍋、振蕩培養(yǎng)箱等設(shè)備也可能成為支原體污染的源頭。由于支原體污染來源的多樣性,很難避免其進(jìn)入細(xì)胞培養(yǎng)系統(tǒng)。
支原體污染的影響深遠(yuǎn)
支原體污染對(duì)細(xì)胞實(shí)驗(yàn)的影響是深遠(yuǎn)的。支原體能夠抑制細(xì)胞增殖,影響免疫反應(yīng)和病毒增殖,甚至引起染色體畸變和易位。這些影響不僅會(huì)導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的不準(zhǔn)確,還可能干擾雜交瘤技術(shù)等重要的生物技術(shù)。因此,支原體污染是細(xì)胞培養(yǎng)中需要克服的重要現(xiàn)象,也是制藥和生物制品生產(chǎn)中需要加以避免的關(guān)鍵因素。
應(yīng)對(duì)支原體污染的策略
盡管支原體污染難以去除,但研究人員仍然可以采取一系列措施來降低其影響。首先,應(yīng)定期對(duì)培養(yǎng)的細(xì)胞進(jìn)行支原體檢測,以便及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理污染。其次,應(yīng)從可靠來源引進(jìn)和使用細(xì)胞,特別是來自信譽(yù)良好的專門機(jī)構(gòu)。此外,細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)室應(yīng)制定嚴(yán)格的管理制度,按照規(guī)范的實(shí)驗(yàn)程序操作,以減少人為污染的風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于已經(jīng)污染的細(xì)胞培養(yǎng)物,應(yīng)立即采取措施進(jìn)行清理和消毒處理,避免污染進(jìn)一步擴(kuò)散。
細(xì)胞實(shí)驗(yàn)中的支原體污染之所以難以去除,是由于其隱蔽性、頑固性和來源廣泛性等多種因素共同作用的結(jié)果。然而,通過定期檢測、規(guī)范操作、嚴(yán)格管理和及時(shí)清理等措施,我們可以最大限度地降低支原體污染對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的影響,為科學(xué)研究和生物制品生產(chǎn)提供準(zhǔn)確可靠的數(shù)據(jù)支持。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。