半導(dǎo)體材料作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要環(huán)節(jié)，在芯片的生產(chǎn)制造過(guò)程中起到關(guān)鍵性作用。根據(jù)芯片制造過(guò)程劃分，半導(dǎo)體材料主要分為基體材料、制造材料和封裝材料。其中，基體材料主要用來(lái)制造硅晶圓或化合物半導(dǎo)體；制造材料主要是將硅晶圓或化合物半導(dǎo)體加工成芯片所需的各類(lèi)材料；封裝材料則是將制得的芯片封裝切割過(guò)程中所用到的材料。

制造材料

1、光刻膠

光刻膠是光刻工藝的核心材料，其主要是通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。按照下游應(yīng)用場(chǎng)景不同，光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、LCD 光刻膠和PCB光刻膠。從組成成分來(lái)看，光刻膠主要成分包括光刻膠樹(shù)脂、感光劑、溶劑和添加劑等。

在光刻工藝中，光刻膠被涂抹在襯底上，光照或輻射通過(guò)掩膜板照射到襯底后，光刻膠在顯影溶液中的溶解度便發(fā)生變化，經(jīng)溶液溶解可溶部分后，光刻膠層形成與掩膜版wan全相同的圖形，再通過(guò)刻蝕在襯底上完成圖形轉(zhuǎn)移。根據(jù)下游應(yīng)用的不同，襯底可以為印刷電路板、面板和集成電路板。光刻工藝是半導(dǎo)體制造中的核心工藝。

2、濺射靶材

靶材是制備電子薄膜材料的濺射工藝*不可少的原材料。濺射工藝主要利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚集成高速度流的離子束流，轟擊固體表面，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體稱(chēng)為濺射靶材。

濺射靶材主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。半導(dǎo)體對(duì)靶材的金屬純度和內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)要求最高，通常要求達(dá)到99.9995%（5N5）以上，平板顯示器、太陽(yáng)能電池的金屬純度要求相對(duì)較低，分別要求達(dá)到99.999%（5N）、99.995%（4N5）以上。

3、拋光材料

化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）其工作原理是在一定壓力及拋光液的存在下，被拋光的晶圓片與拋光墊做相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助納米磨料的機(jī)械研磨作用與各類(lèi)化學(xué)試劑的化學(xué)作用之間有機(jī)結(jié)合，使被拋光的晶圓表面達(dá)到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷的要求。

拋光墊和拋光液是最主要的拋光材料，其中，拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，主要起到拋光、潤(rùn)滑、冷卻的作用，而拋光墊主要作用是存儲(chǔ)、傳輸拋光液，對(duì)硅片提供一定壓力并對(duì)其表面進(jìn)行機(jī)械摩擦，是決定表面質(zhì)量的重要輔料。

4、電子特氣

電子特種氣體（簡(jiǎn)稱(chēng)“電子特氣”）是僅次于硅片的第二大半導(dǎo)體原材料，下游應(yīng)用廣泛。電子特氣是指用特殊工藝生產(chǎn)并在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的，在純度、品種、性能等方面有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質(zhì)氣體配置的二元或多元混合氣（具體產(chǎn)品如下圖所示）。電子特氣是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性化工材料，下游應(yīng)用涵蓋半導(dǎo)體、顯示面板、光纖光纜、光伏、新能源汽車(chē)、航空航天等多個(gè)領(lǐng)域。

5、掩膜版

又稱(chēng)為光罩、光掩膜、光刻掩膜版，是半導(dǎo)體芯片光刻過(guò)程中的設(shè)計(jì)圖形的載體，通過(guò)光刻和刻蝕，實(shí)現(xiàn)圖形到硅晶圓片上的轉(zhuǎn)移。通常根據(jù)需求不同，選擇不同的玻璃基板。

6、濕電子化學(xué)品

又稱(chēng)為超凈高純?cè)噭饕糜诎雽?dǎo)體制造過(guò)程中的各種高純化學(xué)試劑。按照用途可分為通用濕電子化學(xué)品和功能性濕電子化學(xué)品，其中通用濕電子化學(xué)品一般是指高純度的純化學(xué)溶劑，如高純?nèi)ルx子水、氫氟酸、硫酸、磷酸、硝酸等較為常見(jiàn)的試劑。功能性濕電子化學(xué)品是指通過(guò)復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造過(guò)程中特殊工藝需求的配方類(lèi)化學(xué)品，如顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液等，經(jīng)常使用在刻蝕、濺射等工藝環(huán)節(jié)。在晶圓制造過(guò)程中，主要使用高純化學(xué)溶劑去清洗顆粒、有機(jī)殘留物、金屬離子、自然氧化層等污染物。