托托科技推出的無(wú)掩模光刻機(jī)，以其革命性的技術(shù)革新，為微電子、集成電路等制造領(lǐng)域帶來(lái)了靈活性和效率。無(wú)論是在科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等眾多領(lǐng)域，我們的無(wú)掩模光刻機(jī)都能提供解決方案。

激光直寫(xiě)光刻技術(shù)與DMD無(wú)掩模光刻技術(shù)

激光直寫(xiě)技術(shù)通過(guò)激光束直接在材料表面進(jìn)行高精度加工，而DMD無(wú)掩模技術(shù)通過(guò)數(shù)字微鏡陣列投影光束進(jìn)行圖案化加工，適用于大面積光刻。

DMD無(wú)掩模光刻技術(shù)路線介紹

基本原理：DMD技術(shù)利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來(lái)控制微鏡的角度，從而通過(guò)投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 。這些微鏡根據(jù)電信號(hào)的控制會(huì)精確調(diào)節(jié)反射角度，將激光或光源投射到特定位置。

系統(tǒng)組成：基于DMD的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)通常由光源模組、勻光模組、DMD模組、投影模組、運(yùn)動(dòng)臺(tái)模組和軟件等幾大部分構(gòu)成，這些模組高效、精準(zhǔn)的協(xié)同工作，實(shí)現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無(wú)掩模光刻。

工作流程：上位機(jī)的發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到DMD模組，DMD顯示對(duì)應(yīng)的圖形，經(jīng)由DMD反射的光攜帶著圖形信息，并經(jīng)過(guò)一系列光學(xué)元件后照射到基片上，實(shí)現(xiàn)了圖形的轉(zhuǎn)移。高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準(zhǔn)拼接, 最終實(shí)現(xiàn)大型、復(fù)雜圖案的動(dòng)態(tài)曝光。

核心功能

靈活設(shè)計(jì)無(wú)需掩模版

與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無(wú)掩模光刻機(jī)更加靈活便捷，省去了制版的時(shí)間和金錢(qián)成本，幫助您快速驗(yàn)證想法

加工精度可達(dá)400 nm

加工精度1 μm可以滿足大多數(shù)加工需求，針對(duì)精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達(dá)400 nm的產(chǎn)品供您選擇

速度高達(dá)1200 mm²/min

對(duì)于大尺寸樣品的加工來(lái)說(shuō)，效率變得尤為重要，我們將為您供高速高精度的設(shè)備來(lái)滿足您的需求

加工幅面可達(dá)2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達(dá)2 m² 的產(chǎn)品來(lái)滿足您的需求

灰度光刻可達(dá)4096階

4096階的灰度能力，能夠精準(zhǔn)地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復(fù)雜且細(xì)膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案，為微納制造領(lǐng)域帶來(lái)工藝精度與豐富的設(shè)計(jì)可能性

特色功能

直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來(lái)快速驗(yàn)證您的想法

精準(zhǔn)套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對(duì)準(zhǔn)預(yù)覽，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)套刻

陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認(rèn)工藝參數(shù)的手段，以此來(lái)幫您節(jié)約時(shí)間

主動(dòng)對(duì)焦：主動(dòng)對(duì)焦為您提供光刻前的實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)，以此來(lái)確保每次光刻聚焦清晰

應(yīng)用方向：二維材料

托托科技自主研發(fā)的“指引光”和“直接繪圖”功能在感興趣的二維材料上直接繪制電極圖案，靈活高效。

應(yīng)用方向：微流控

無(wú)掩模光刻機(jī)可用于制作高深寬比（10:1）結(jié)構(gòu)，在微流控芯片的制造中具有高精度、高靈活性，廣泛應(yīng)用于單細(xì)胞分析、傳感器等領(lǐng)域。

應(yīng)用方向：MEMS

無(wú)掩模光刻技術(shù)在MEMS領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，可高精度制造微米級(jí)圖案，通過(guò)多層套刻的方式進(jìn)行復(fù)雜結(jié)構(gòu)的加工。

應(yīng)用方向：微透鏡

通過(guò)灰度光刻的方式可以精確控制表面形貌從而生成復(fù)雜的衍射結(jié)構(gòu)，如光柵、菲涅爾透鏡、微透鏡等。

應(yīng)用方向：光學(xué)衍射器件

灰度光刻在光學(xué)調(diào)制器件中的應(yīng)用通過(guò)精確控制光刻強(qiáng)度，制造出高度精細(xì)的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，用于實(shí)現(xiàn)光波的調(diào)制與傳輸特性優(yōu)化。

應(yīng)用方向：浮雕結(jié)構(gòu)

灰度光刻在防偽浮雕結(jié)構(gòu)中的應(yīng)用通過(guò)精細(xì)調(diào)控光照強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)高精度的三維微結(jié)構(gòu)，增強(qiáng)防偽標(biāo)識(shí)的復(fù)雜性和難以復(fù)制性。

應(yīng)用方向：超表面

光刻工藝在超表面方向的應(yīng)用通過(guò)精確加工微納米級(jí)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)光波的精細(xì)操控和特定波長(zhǎng)、極化等光學(xué)性質(zhì)的調(diào)制。

應(yīng)用方向：量子光學(xué)

光刻工藝在量子光學(xué)光波導(dǎo)方向的應(yīng)用通過(guò)精密刻蝕微納尺度的光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)對(duì)量子態(tài)的傳輸和操控，促進(jìn)量子信息處理與傳輸技術(shù)的發(fā)展。

應(yīng)用方向：掩模版制造

高速（可達(dá)1200 mm²/min）的無(wú)掩模光刻機(jī)適用于小批量、定制化掩模版制備，減少對(duì)外部依賴，縮短設(shè)計(jì)迭代周期。

科研版-Academic 無(wú)掩模光刻機(jī)

高靈活性、高精度、無(wú)掩模的優(yōu)勢(shì)，適用于科學(xué)研究

●6 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達(dá)0 . 4  μm

● 步進(jìn)式光刻/掃描式光刻

高速版-Speed 無(wú)掩模光刻機(jī)

更快的加工速度、更強(qiáng)的設(shè)備性能，適用于小批量生產(chǎn)制造

●8 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達(dá)0.5 μm

●掃描式光刻

教育版-Young 無(wú)掩模光刻機(jī)

桌面型無(wú)掩模光刻機(jī)，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實(shí)驗(yàn)課程

●2英寸加工幅面

●最小特征尺寸可達(dá)1 . 5 μm

*以上所有產(chǎn)品的規(guī)格參數(shù)取決于個(gè)別工藝條件，并可能根據(jù)設(shè)備配置而有所不同，寫(xiě)入速度取決于曝光面積。

更多解決方案

● 材料器件制備一站式解決方案

如果您的研究涉及厭水、厭氧性質(zhì)的材料（如磁性氧化物、Micro-LED、OLED等）又需要進(jìn)行光刻相關(guān)的實(shí)驗(yàn)，我們可以為您提供手套箱版本的光刻機(jī)解決方案。

● 特殊襯底光刻

光刻不僅適用于常規(guī)硅基襯底，還可以在各種特殊襯底上進(jìn)行，例如鉆石、光纖、甚至小的發(fā)動(dòng)機(jī)葉片（曲面）等，為各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域提供解決方案。

● 超大幅面光刻

除了可以加工晶圓級(jí)尺寸的樣品，我們還能夠處理更大尺寸的樣品。例如設(shè)備可以支持超大幅面（2米）的微納加工，以滿足不同研究和工業(yè)需求。

托托科技是一家快速成長(zhǎng)的技術(shù)驅(qū)動(dòng)型企業(yè)，專注于精密光學(xué)儀器的研發(fā)制造。公司目前擁有無(wú)掩模版光刻設(shè)備、磁學(xué)產(chǎn)品、多模態(tài)光電顯微鏡、超高精度3D光刻產(chǎn)品、3D顯微鏡五個(gè)核心產(chǎn)品線，已經(jīng)形成了集設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造、銷售及客戶咨詢服務(wù)為一體的高科技企業(yè)，致力于給客戶提供技術(shù)支持，以技術(shù)和細(xì)致設(shè)計(jì)造就品質(zhì)，以耐心服務(wù)和企業(yè)擔(dān)當(dāng)贏得良好口碑。