晶圓需要清洗，在半導(dǎo)體行業(yè)屬于必須的事實(shí)。那么，不少人好奇的是，晶圓清洗用純水可以嗎？對(duì)于這個(gè)問題，我們馬上來給大家一個(gè)答案：

晶圓清洗可以用純水，但通常使用的是超純水。因?yàn)槿绻褂眉兯烙?jì)會(huì)存在一些不穩(wěn)定因素：

雜質(zhì)影響

普通純水：雖然純水在一定程度上去除了大部分雜質(zhì)，但仍可能含有微量的離子、有機(jī)物、顆粒等雜質(zhì)。在晶圓清洗中，即使是微量的雜質(zhì)也可能對(duì)晶圓的質(zhì)量和性能產(chǎn)生不良影響，例如導(dǎo)致電路短路、漏電等問題。

超純水：超純水是經(jīng)過深度凈化處理的水，其純度高，幾乎不含有除了氫原子和氧原子之外的任何細(xì)菌、有機(jī)物、無機(jī)物、礦物質(zhì)、二噁英等雜質(zhì)。使用超純水清洗晶圓可以減少雜質(zhì)對(duì)晶圓的影響，保證晶圓的高質(zhì)量和高性能。

生產(chǎn)效率

干燥速度：超純水具有快速蒸發(fā)的特點(diǎn)，能夠使晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產(chǎn)周期，提高生產(chǎn)效率。相比之下，普通純水的蒸發(fā)速度較慢，會(huì)延長晶圓的干燥時(shí)間，降低生產(chǎn)效率。

工藝穩(wěn)定性：超純水中的溶解氣體、離子濃度等參數(shù)可以得到精確控制，這有助于保持清洗工藝的穩(wěn)定性。而普通純水中的這些參數(shù)可能會(huì)有一定的波動(dòng)，影響清洗效果和工藝的穩(wěn)定性。

成本因素

設(shè)備投資：要獲得超純水，需要配備專門的超純水設(shè)備，如雙級(jí)反滲透系統(tǒng)、EDI 模塊等，設(shè)備的投資成本較高。

運(yùn)行維護(hù)：超純水設(shè)備的運(yùn)行和維護(hù)也需要一定的費(fèi)用，包括更換濾芯、膜組件等耗材，以及定期的檢測和維護(hù)工作。不過，從長遠(yuǎn)來看，使用超純水清洗晶圓可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量，減少因質(zhì)量問題導(dǎo)致的廢品率，從而降低生產(chǎn)成本。