什么是單晶硅呢？它是一種半導(dǎo)體材料，其導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間，主要應(yīng)用于太陽能電池行業(yè)。在單晶硅的生產(chǎn)過程我們要對其進行清洗，而清洗單晶硅時需要使用不含雜質(zhì)的超純水進行清洗，那么，超純水設(shè)備就是一種可制備超純水，出水電阻率高且不含任何雜質(zhì)的設(shè)備。

目前主要的超純水系統(tǒng)設(shè)計的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結(jié)合的制水工藝，具有水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理等特點。那么，制備單晶硅清洗用水的超純水設(shè)備在長時間工作后，如果不定期進行維護，就很容易被污染，因此要對該設(shè)備進行“呵護”，才能保證設(shè)備出水水質(zhì)符合要求。

如何，清洗保養(yǎng)超純水設(shè)備？

　　1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內(nèi)混合。

　　2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至膜系統(tǒng)，并排走原水，防止清洗液稀釋。

　　3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定，用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。

　　4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時即可，污染較嚴(yán)重的膜系統(tǒng)可進行更長時間的浸泡清洗。

　　5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘，使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。

　　6、用清水將清洗液沖去。設(shè)備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。

　　綜上，單晶硅清洗應(yīng)用的超純水設(shè)備具有結(jié)構(gòu)設(shè)計相對靠緊，占地面積小，應(yīng)用范圍廣等特點，但只有定期清洗才能夠能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，保證設(shè)備更長久的運行。