如何清洗保養(yǎng)單晶硅生產(chǎn)應(yīng)用的超純水設(shè)備?
什么是單晶硅呢?它是一種半導(dǎo)體材料,其導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體和絕緣體之間,主要應(yīng)用于太陽能電池行業(yè)。在單晶硅的生產(chǎn)過程我們要對其進行清洗,而清洗單晶硅時需要使用不含雜質(zhì)的超純水進行清洗,那么,超純水設(shè)備就是一種可制備超純水,出水電阻率高且不含任何雜質(zhì)的設(shè)備。
目前主要的超純水系統(tǒng)設(shè)計的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結(jié)合的制水工藝,具有水利用率高,運行可靠,經(jīng)濟合理等特點。那么,制備單晶硅清洗用水的超純水設(shè)備在長時間工作后,如果不定期進行維護,就很容易被污染,因此要對該設(shè)備進行“呵護”,才能保證設(shè)備出水水質(zhì)符合要求。
如何,清洗保養(yǎng)超純水設(shè)備?
1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內(nèi)混合。
2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至膜系統(tǒng),并排走原水,防止清洗液稀釋。
3、保持設(shè)備溫度穩(wěn)定,用清洗泵將清洗液在系統(tǒng)中循環(huán)。
4、清洗液在設(shè)備內(nèi)浸泡一小時即可,污染較嚴(yán)重的膜系統(tǒng)可進行更長時間的浸泡清洗。
5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘,使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。
6、用清水將清洗液沖去。設(shè)備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。
綜上,單晶硅清洗應(yīng)用的超純水設(shè)備具有結(jié)構(gòu)設(shè)計相對靠緊,占地面積小,應(yīng)用范圍廣等特點,但只有定期清洗才能夠能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水,保證設(shè)備更長久的運行。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。