RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀TXRF 3760
TXRF 3760 系列
全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀
對(duì)晶圓表面的污染進(jìn)行無損、非接觸式和高靈敏度分析
轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線單色器
過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度,從而實(shí)現(xiàn)高通量。
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TXRF 3760 概述
1 個(gè)靶標(biāo)、3 個(gè)光束系統(tǒng)
這是一種方法,它使用三種類型的光譜晶體來提取被測(cè)元素的最佳單色 X 射線束,并將其用于污染元素激發(fā)。 用于輕元素測(cè)量的 W-Mα 射線不會(huì)激發(fā) Si,因此可以分析 Na、Mg 和 Al。 從 Na~U 連續(xù)進(jìn)行高精度自動(dòng)分析。
通過去除衍射線將散線的影響降至很低
它使用抑制高階反射的光學(xué)系統(tǒng)和 X-Y-theta 驅(qū)動(dòng)平臺(tái),自動(dòng) X 射線入射方向選擇功能消除了基板上的衍射線,并以最小的散射射線干擾實(shí)現(xiàn)高 S/N 測(cè)量。 可以對(duì)整個(gè)晶圓表面進(jìn)行準(zhǔn)確和高精度的痕量分析。
可以與異物檢查坐標(biāo)數(shù)據(jù)進(jìn)行坐標(biāo)聯(lián)動(dòng)。
異物檢查裝置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)可以導(dǎo)入 TXRF 系統(tǒng),并且可以對(duì)顆粒存在點(diǎn)進(jìn)行污染元素分析。 滴灌跟蹤搜索功能使用的算法,需要快速準(zhǔn)確的坐標(biāo)。
晶圓表面的高速污染物篩選 “Sweeping-TXRF function”
Sweeping-TXRF 方法可用于使用直接 TXRF 方法高速測(cè)量晶圓表面的內(nèi)部,并闡明污染元素的分布狀態(tài)。 可以在短時(shí)間內(nèi)完成晶圓整個(gè)表面的污染分析,這是傳統(tǒng)的代表性坐標(biāo)測(cè)量(例如平面中的 5 或 9 個(gè)點(diǎn))無法捕獲的。 200mm 晶圓整個(gè)表面的 5×1010 原子/厘米2 污染物檢測(cè)可在短短 30 分鐘內(nèi)完成。 除了污染物元素的分布外,還可以通過整合整個(gè)表面的測(cè)量值來計(jì)算晶圓表面的平均污染物濃度。
邊緣排除 0mm 無損和非接觸式污染測(cè)量 “ZEE-TXRF 功能”
我們已經(jīng)在晶圓邊緣附近實(shí)現(xiàn)了高靈敏度測(cè)量,這是迄今為止TXRF方法無法測(cè)量的。 現(xiàn)在可以使用 TXRF 在污染集中的邊緣進(jìn)行污染分析。
與各種 CIM/FA 兼容
它可以通過 SECS 與主機(jī)通信,并支持各種 CIM/FA。 除了開放式包埋盒外,還提供 SMIF POD(可選)。
TXRF 3760 規(guī)格
產(chǎn)品名稱 | TXRF 3760 系列 | |
---|---|---|
技術(shù) | 全內(nèi)反射 X 射線熒光 (TXRF) | |
用 | 從 Na 到 You 的元素分析以測(cè)量晶圓污染 | |
科技 | 帶無液氮檢測(cè)器的 3 光束 TXRF 系統(tǒng) | |
主要組件 | 適用于最大 200 mm 晶圓的 XYθ 樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空晶圓中的機(jī)器人傳輸系統(tǒng)、ECS/GEM 通信軟件 | |
選擇 | Sweep TXRF 軟件(能夠映射晶圓表面的污染物分布以識(shí)別“熱點(diǎn)”)。 ZEE-TXRF 功能,可實(shí)現(xiàn)零邊排除測(cè)量) | |
控制 (PC) | 內(nèi)部 PC、MS Windows®作系統(tǒng) | |
本體尺寸 | 1000 (寬) x 1760 (高) x 948 (深) 毫米 | |
質(zhì)量 | 100 kg(主機(jī)) | |
權(quán)力 | 三相 200 VAC 50/60 Hz,100 A |
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