游離二氧化硅檢測儀及其相關(guān)附件
2.設(shè)備功能及性能要求:
2.1 游離二氧化硅檢測儀可以對煤炭行業(yè)中礦塵的游離二氧化硅進(jìn)行檢測,同時(shí),進(jìn)行化合物的、進(jìn)行未知化合物的結(jié)構(gòu)分析、進(jìn)行化合物的定量分析、進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)動力學(xué)、晶變、相變、材料拉伸
與結(jié)構(gòu)的瞬變關(guān)系研究等。
2.2 具有光學(xué)系統(tǒng),電子系統(tǒng),軟件功能,操作方便的界面,光學(xué)臺整體密封干燥設(shè)計(jì),提高了光的傳輸效率和測試的準(zhǔn)確性。
3.設(shè)備主要配置
游離二氧化硅檢測儀及其相關(guān)附件基本組成(包含但不限于下列配置):
3.1 游離二氧化硅檢測儀主機(jī):1 臺;
3.2 固體包(含 DF-4 壓片機(jī)、HF-2/HF-12 壓片模具、瑪瑙研缽、溴化鉀光譜純、紅外石英比色皿):1 套;
3.3 液體池:1 個(gè);
3.4 氣體池:1 個(gè);
3.5 紅外烘烤箱:1 臺;
3.6 數(shù)據(jù)采集處理工作站:1 臺;
3.7 游離二氧化硅測試系統(tǒng):1 套;
3.8 數(shù)據(jù)分析軟件:1 套;
3.9 打印機(jī):1 臺。
4.主要技術(shù)參數(shù):
4.1 光譜范圍:7800~350cm-1;
*4.2 檢測器:進(jìn)口靈敏度 DLATGS 檢測器;
4.3 分束器:外進(jìn)口多層鍍膜溴化鉀;
*4.4 信噪比:>30000:1P-P 值(150000:1RMS);
4.5 掃描速度:微機(jī)控制和選擇不同的掃描速度,檔次連續(xù)可調(diào);
4.6 光源:外進(jìn)口長壽命高強(qiáng)度空氣冷卻紅外光源;
*4.7 干涉儀:30°入射邁克爾遜干涉儀,內(nèi)裝自動準(zhǔn)直機(jī)構(gòu),氣密閉構(gòu)造;
4.8 光學(xué)系統(tǒng):單光束方式;
4.9 電子系統(tǒng): 位 A/D 轉(zhuǎn)換器,24500kHz 的 A/D 轉(zhuǎn)換高的 USB2.0通訊接口;
*4.10 操作軟件:中文對譜圖進(jìn)行標(biāo)住,數(shù)據(jù)處理功能(標(biāo)峰,峰面積積分,基線校準(zhǔn)等操作),譜圖檢索功能,自我診斷功能,譜圖匹配功能,標(biāo)準(zhǔn)文件格式,基礎(chǔ)紅外解析功能,QC 比較功能,按點(diǎn)平滑功能,y 軸歸一化功能,譜圖組保存功能,免費(fèi)提供 20 萬張紅外標(biāo)準(zhǔn)譜圖;
4.11 密閉型干涉儀及其內(nèi)置干燥器具有的防潮性能,配備智能濕度自動提醒裝置;
4.12 內(nèi)****的準(zhǔn)直系統(tǒng)和動鏡驅(qū)動系統(tǒng);
4.13 樣品倉尺寸:≥180mm×150mm×110mm;
4.14 數(shù)據(jù)采集及處理工作站:主流品牌計(jì)算機(jī),其中:CPU 為 I5系列以上 4 核心處理器,內(nèi)存≥8G,硬盤≥1T,光驅(qū):DVDRW,獨(dú)立顯卡(顯存≥1G),19 寸寬屏液晶;
4.15 打 印 機(jī) : 激 光 彩 色 打 印 機(jī) 、 A4 幅 面 , 高 分 辨 率 :1200x1200dpi,具備網(wǎng)絡(luò)打印能力和自動雙面打印功能。
鄭州華致生產(chǎn)游離二氧化硅檢測儀及其相關(guān)附件供應(yīng)瓦斯壓力測定儀|瓦斯解吸儀|密度測定儀|地勘瓦斯解吸儀|瓦斯含量快速測定儀|瓦斯杖|球膽|瓦斯吸附常數(shù)測定儀|瓦斯放散初速度測定儀|U形傾斜壓差計(jì)|深孔取樣裝置|DGC煤樣罐 瓦斯吸附常數(shù)ab值測定儀 壓縮氧自救器自動檢測裝置
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