半導體濺射是半導體制造中使用的一種薄膜形成技術。

被等離子體電離的氣體撞擊一種稱為靶的材料，將微粒沉積到基質(zhì)上。噴射出的粒子以高能狀態(tài)到達基材，這使得它們更容易牢固地粘附在基材上。以金屬、氧化物等多種物質(zhì)為靶材，在半導體芯片的配線層、絕緣膜、保護膜等各種膜的形成中發(fā)揮著重要作用。

與主要依賴化學反應的方法不同，濺射具有通過物理方式將材料供應到基材的 特點。與氣相沉積相比，該方法的優(yōu)點是可以提供更高的薄膜附著力和均勻性，并且薄膜厚度的控制更容易且更穩(wěn)定。據(jù)稱，在需要精細圖案的半導體工藝中，更容易實現(xiàn)高再現(xiàn)性。

半導體濺射是生產(chǎn)高性能器件的重要方法。

半導體濺射的應用

半導體濺射的優(yōu)點在于，它可以靈活地適應堆疊具有多種功能層的工藝，從導電層到保護層。不僅可以期待穩(wěn)定的薄膜品質(zhì)，而且通過精密控制可以輕松獲得均勻的薄膜也備受關注。以下是如何使用這些服務的一些示例：

1. 半導體晶圓

廣泛應用于半導體晶圓上高精度布線層及電極的形成工序。該方法的特點是可以在基板上均勻地沉積一層薄薄的金屬膜，從而獲得穩(wěn)定的電氣特性。除了導體之外，它還可以形成絕緣膜和阻擋層，從而可以靈活應對日益復雜的器件結構。

2. 小型設備

濺射技術通常用于制造需要微加工的小型設備。通過等離子體物理供應粒子的優(yōu)點是即使在具有高縱橫比結構的區(qū)域也更容易形成穩(wěn)定的薄膜。例如，在傳感器和存儲元件中，精確控制的薄膜對器件性能和可靠性有重大影響。

3. 原型設計、研究與開發(fā)

半導體濺射服務也經(jīng)常用于原型設計和研發(fā)領域。該方法的優(yōu)點是在評估新材料的性能或優(yōu)化工藝條件時可以輕松處理少量樣品。由于它可以處理各種各樣的材料，因此可以靈活地進行使用下一代功能材料和復合材料的實驗，并且在考慮高級應用時也很有用。該方法被高度評價為一種易于使用的技術，因為即使在測試的材料特性時，它也可以適當調(diào)整薄膜厚度。