手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號(hào)：chem17
掃碼關(guān)注視頻號(hào)
電子級(jí)超純水系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)是什么
電子級(jí)超純水系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)是什么
電子級(jí)超純水（UPW）系統(tǒng)是半導(dǎo)體、光伏、顯示面板等行業(yè)的核心配套設(shè)備，其水質(zhì)要求極為苛刻（如電阻率≥18.2 MΩ·cm），中國(guó)電子級(jí)超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)如下表。
表 1 電子級(jí)水的技術(shù)指標(biāo)GB/T11446. 1— 2013
項(xiàng) 目 | 技術(shù)指標(biāo) | ||||
EW-Ⅰ | EW-Ⅱ | EW-Ⅲ | EW-Ⅳ | ||
電阻率(25℃)/MΩ · cm | ≥18 (5%時(shí)間不低于 17) | ≥15 (5%時(shí)間不低于 13) | ≥12. 0 | ≥0. 5 | |
全硅/(μg/L) | ≤2 | ≤10 | ≤50 | ≤1000 | |
微粒數(shù)/ (個(gè)/L) | 0. 05μm~0. 1 μm | 500 | — | — | — |
0. 1 μm~0. 2 μm | 300 | — | — | — | |
0. 2 μm~0. 3 μm | 50 | — | — | — | |
0. 3 μm~0. 5 μm | 20 | — | — | — | |
> 0. 5 μm | 4 | — | — | — | |
細(xì)菌個(gè)數(shù)/(個(gè)/mL) | ≤0. 01 | ≤0. 1 | ≤10 | ≤100 | |
銅/(μg/L) | ≤0. 2 | ≤1 | ≤2 | ≤500 | |
鋅/(μg/L) | ≤0. 2 | ≤1 | ≤5 | ≤500 | |
鎳/(μg/L) | ≤0. 1 | ≤1 | ≤2 | ≤500 | |
鈉/(μg/L) | ≤0. 5 | ≤2 | ≤5 | ≤1000 | |
鉀/(μg/L) | ≤0. 5 | ≤2 | ≤5 | ≤500 | |
鐵/(μg/L) | ≤0. 1 | — | — | — | |
鉛/(μg/L) | ≤0. 1 | — | — | — | |
氟/(μg/L) | ≤1 | — | — | — | |
氯/(μg/L) | ≤1 | ≤1 | ≤10 | ≤1000 | |
亞硝酸根/(μg/L) | ≤1 | — | — | — | |
溴/(μg/L) | ≤1 | — | — | — | |
硝酸根/(μg/L) | ≤1 | ≤1 | ≤5 | ≤500 | |
磷酸根/(μg/L) | ≤1 | ≤1 | ≤5 | ≤500 | |
硫酸根/(μg/L) | ≤1 | ≤1 | ≤5 | ≤500 | |
總有機(jī)碳/(μg/L) | ≤20 | ≤100 | ≤200 | ≤1000 | |
電子級(jí)超純水（UPW）系統(tǒng)技術(shù)難點(diǎn)主要集中在以下幾個(gè)方面：
一、原水預(yù)處理階段的挑戰(zhàn)
1、微量污染物去除：需去除膠體、有機(jī)物、微生物、溶解氣體（如CO?）等，傳統(tǒng)過(guò)濾技術(shù)難以穩(wěn)定達(dá)到ppb級(jí)。
2、抗污染膜設(shè)計(jì)：超濾（UF）和反滲透（RO）膜需長(zhǎng)期耐受高污染原水，防止膜孔堵塞和性能衰減。
3、化學(xué)藥劑兼容性：預(yù)處理中使用的殺菌劑、絮凝劑可能引入二次污染（如Na?、Cl?殘留）。
二、離子去除技術(shù)的極限要求
1、二級(jí)RO與EDI的協(xié)同優(yōu)化：
反滲透（RO）需實(shí)現(xiàn)99.5%以上的脫鹽率，且需應(yīng)對(duì)低TOC進(jìn)水條件。
電去離子（EDI）需在無(wú)化學(xué)再生條件下持續(xù)產(chǎn)出超純水，但高純水環(huán)境下離子遷移效率降低，易出現(xiàn)“極化現(xiàn)象”。
2、痕量離子去除技術(shù)：對(duì)B、Si等弱電離物質(zhì)的去除需特殊樹脂或電化學(xué)工藝（如除硼核級(jí)樹脂、除硅樹脂）。
三、微生物與TOC控制的矛盾
1、超低TOC要求：需聯(lián)合紫外氧化（185nm UV）、高級(jí)氧化（AOP）和特殊催化劑將有機(jī)物分解為CO?和水，但可能產(chǎn)生中間產(chǎn)物干擾。
2、微生物抑制：管道系統(tǒng)需避免生物膜滋生，需采用臭氧或熱消毒（80℃循環(huán)），但高溫可能加速材料腐蝕。
四、顆粒與溶解氣體的ppb級(jí)別去除
1、納米級(jí)顆粒控制：終端過(guò)濾需使用≤0.1μm的超濾膜或納米纖維濾芯，但壓差增大易導(dǎo)致顆粒釋放。
2、溶解氧/CO?脫除：真空脫氣膜或膜接觸器需將O?降至ppb級(jí)，CO?需通過(guò)高pH陰離子交換樹脂轉(zhuǎn)化。
五、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與超純材料難題
1、超高潔凈材料：管道、閥門需采用電拋光316L不銹鋼或PVDF，表面粗糙度＜0.5μm，避免離子析出。
2、零死體積設(shè)計(jì)：循環(huán)系統(tǒng)需保持≥1 m/s流速防止滯留污染，但高流速可能引發(fā)顆粒脫落。
3、實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與反饋：在線傳感器（電阻率、TOC、顆粒計(jì)數(shù)器）需在超純水環(huán)境中保持精度，避免信號(hào)漂移。
六、 運(yùn)行維護(hù)的穩(wěn)定性
1、長(zhǎng)期可靠性：樹脂、膜、EDI、過(guò)濾濾芯壽命受進(jìn)水波動(dòng)影響大，需預(yù)測(cè)性維護(hù)（如EDI電壓監(jiān)控）。
卓水越電子級(jí)超純水
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來(lái)源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)，不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí)，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源，并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題，請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
采購(gòu)中心