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等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時間 2025/2/27 13:32:44
  • 訪問次數(shù) 4538
產(chǎn)品標簽

沉積系統(tǒng)

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科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理??祁9疽回灡小赫\信』、『品質(zhì)』、『服務』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化,為廣大中國用戶提供儀器、設(shè)備,周到的技術(shù)、服務和*的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國,納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領(lǐng)域,都需要與歐美發(fā)達國家*接軌的儀器設(shè)備平臺來實現(xiàn)。科睿設(shè)備有限公司有幸成長在這個火熱的年代,我們愿意化為一座橋梁,見證中國科技水平的提升,與中國科技共同飛速成長。
      科睿設(shè)備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設(shè)在中國香港,在中國上海設(shè)立了分公司,在國內(nèi)多個城市設(shè)立了辦事處或維修站,旨在為客戶提供*的產(chǎn)品和服務。2010年,科睿設(shè)備有限公司在上海設(shè)立備品倉庫及維修中心,同時提供在大陸的各項技術(shù)服務和后期的維修保障服務,我們擁有專業(yè)的應用維修人員,并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件,能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應,72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務!
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng),主要用戶包括:中科院物理所,中科院半導體所,中科院大連化學物理研究所,國家納米中心,上海納米中心,北京大學,清華大學,中國科技大學,南京大學,復旦大學,上海交通大學,華東理工大學,浙江大學,中山大學,西安交通大學,四川大學,中國工程物理研究院,香港大學,香港城市大學,香港中文大學,香港科技大學等。



光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統(tǒng)

等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)

PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD).
我司按照客戶不同的應用需求,提供高質(zhì)量的PECVD滿足不同的研究生產(chǎn)需求。
我司提供的PECVD系統(tǒng)可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜等。最大沉積尺寸為12英寸。
通常選用射頻淋浴源(RF)或帶有不規(guī)則氣體分布的空心陰極射頻等離子體源作為反應源產(chǎn)生等粒子體。
部分PECVD可以升級到PECVD & 反應離子蝕刻雙功能系統(tǒng)(帶ICP源)。

等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)
系統(tǒng)參數(shù):
腔體極限真空度:10-7 torr;
等粒子源: 射頻淋浴源(RF)、空心陰*密度等離子體源(HCD)、感應耦合等離子體源(ICP)或微波等離子體源, VHF(甚高頻)電源
襯體直徑:最大12” (300 mm)直徑
帶RF偏壓的襯底托;
加熱溫度:最高800°C;
最高可達8路MFC和多樣化的氣體選擇;
均勻性:≤±3%;
預抽真空室和自動晶片裝卸門;
全自動控制;


應用領(lǐng)域:
等離子誘導表面改性;
等離子清洗;
等離子聚合;
SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜;
碳納米管(CNT)的選擇性生長。




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