全自動光刻機  

全自動光刻機
MIDAS SYSTEM公司開發(fā)并生產(chǎn)用于半導體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實驗室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對準曝光機和甩膠機，是韓國*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對準曝光機的企業(yè)，始終致力于不斷完善、增強技術(shù)型企業(yè)的核心競爭力。

MIDAS SYSTEM公司具有專業(yè)化的設(shè)計團隊，以客戶需要為己任，生產(chǎn)、供應(yīng)滿足國內(nèi)外企業(yè)、科研院所不斷增長的應(yīng)用需求，并且提供半導體工藝相關(guān)的設(shè)備需要。

MDA-12SA型曝光機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復(fù)光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應(yīng)用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。



項目 參數(shù)
光源能量 紫外曝光光源光強2000～5000W，輸出能量可控
光束范圍 14.25″× 14.25″
均勻光束范圍 13.25″× 13.25″
光束均勻性 ＜3%～5%
365nm輸出光束強度 5KW 25～60mW/cm2，2 KW 15～30mW/cm2
400nm輸出光束強度 5KW 50～100mW/cm2，2 KW30～50mW/cm2
可調(diào)節(jié)曝光時間 0.1～999.9s
范圍觀察 顯微鏡/CCD相機安裝（480～1000倍可變放大,1600倍可選）
電動觀察范圍移動 顯微鏡x、y、z電動操作（手柄控制）
電動樣品臺 樣品臺x、y、z、Theta電動操作
卡盤移動 大范圍。靜態(tài)對準工具模塊進行x、y、z、Theta移動
卡盤水平 楔形誤差補償（楔形位置自動感應(yīng)，壓力傳感器，警報）
基片尺寸 直至14″× 14″
掩模板規(guī)格 可替換的直至15″× 15″
真空卡盤移動 x、y：10mm；Theta：4×
Z向移動距離 10mm
接觸模式 接近式、軟接觸式、硬接觸式、真空接觸式（真空接觸力可調(diào)節(jié)）
接近調(diào)節(jié) 1μm步進可調(diào)節(jié)程序化控制系統(tǒng)
對準精度 1μm
顯示器 17″觸屏
氣動控制 基片、掩膜、接觸、接觸調(diào)節(jié)、卡盤鎖、N2、N2調(diào)節(jié)
分辨率 1μm（真空接觸下近紫外）
擺放 防震桌
選件 CCD BSA、DUV、紫外強度計