納米壓印-光刻機

納米壓印光刻的更好解決方案

桌面R2P納米壓印機與今天仍然主導行業(yè)的傳統(tǒng)納米壓印工具相比，它是一種小型且具有成本競爭力的卷對板壓印。這種智能技術是納米壓印光刻平面和卷對板 （R2P） 設備。

我們的卷對板NIL工藝使用壓區(qū)壓印工藝以及可調節(jié)的壓印力，以最大限度地減少材料收縮，同時減少氣泡問題。這種壓印工藝減少了對基材一致性的要求，降低了成本，提高了產量。

在設計這款R2P納米壓印機時考慮到了節(jié)省成本，同時旨在制造具有高質量輸出的機器;通過對每小時多達 60 個印版/晶圓進行定期性能評估，在大批量使用中不會影響質量。

納米壓印機可加快工藝周期

桌面式R2P納米打印機通過快速測試新設計，允許開發(fā)周期的快速迭代;因此，它是原型制作的設備。

該設備使用戶能夠嘗試和測試許多壓印技術;光固化樹脂和加工參數，如壓力、速度和光強度。這些檢查對于在大規(guī)模生產之前進行擴展非常有用 - 在內部構建原型的能力將節(jié)省時間和資源。臺式R2P納米壓印機還允許從易于使用的DIY耗材開發(fā)壓印模板

光學引擎設計，設備更簡潔

該打印機包括光學引擎，該引擎提供具有被動冷卻功能的長壽命（395nm）發(fā)光二極管（LED），以及可選的內置水冷功能，可滿足各種曝光需求。

我們在光學引擎中使用發(fā)光二極管來生產更大的產量。這取代了氣體放電管輕型發(fā)動機。光學引擎是臺式R2P納米壓印機的重要組成部分，因為它提供了在我們的光固化樹脂中產生快速化學反應所需的高度聚焦的光子能量，將聚合物狀態(tài)從彈性變?yōu)樗芰稀?/span>

納米壓印-光刻機

臺式R2P納米打印機規(guī)格

最大印跡尺寸：最大 105 x188 mm （寬 x 長），

基板厚度：最大 11 mm

復制速度：每小時 60 次手動復制（速度高達 5 米/分鐘）

速度范圍 0.1 至 5 米/分鐘。

光學固化引擎：長壽命395nm LED

最大功率：在 5 米/分鐘時高達 120mJ/cm2。

設備尺寸和重量：670x380x320毫米（長x寬x高），26公斤