化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)>UV-Writer 無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
UV-Writer 無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
參考價(jià) | ¥ 800000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 科睿設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) UV-Writer
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/8/23 12:28:46
- 訪問(wèn)次數(shù) 2091
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光刻機(jī),鍍膜機(jī),磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測(cè)量),氣溶膠設(shè)備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強(qiáng)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD),原子層沉積系統(tǒng)(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測(cè)試系統(tǒng)
無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
直接激光直寫光刻
直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。
無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng),其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計(jì)。
一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計(jì)。
除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。
在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。
使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。
接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫在表面上。
技術(shù)指標(biāo):
XY工作臺(tái)
典型寫入速度:100-120 mm/s
最大面積:100x92 mm^2
最小面積:沒(méi)有最小面積
單向定位臺(tái)階:X=0.16µm,Y=1.00µm
慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))
實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見下圖)
軟件
支持的格式:PNG、GDSII
在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框
-可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)
-通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償
-全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定
光學(xué)
-激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm)
-激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡
-二次獨(dú)立黃色照明
-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變
精度:
-精細(xì):0.8µm
-介質(zhì):2µm
-粗粒:5µm
大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):
-精細(xì):1.7 mm^2/min
-中等:4.25 mm^2/min
-粗糙度:10.6 mm^2/min
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