激光干涉光刻機(jī)

激光干涉光刻機(jī)

 HIL系列激光干涉納米光刻機(jī)具有突破性的強(qiáng)大功能，只需 要單次曝光即可在幾分鐘內(nèi)制備大面積周期性納米結(jié)構(gòu)。其 最小特征尺寸可以低于50納米。該系統(tǒng)是制作高品質(zhì)、晶圓 級(jí)的納米壓印模板和納米結(jié)構(gòu)器件的理想選擇。

最小線(xiàn)寬低于50納米

多種一維/二維納米圖案

單次曝光實(shí)現(xiàn)晶圓級(jí)納米結(jié)構(gòu)

HIL 1000納米光刻系統(tǒng)非常適用于高質(zhì)量晶圓級(jí)納米壓印模板的制作，能滿(mǎn) 足各種研發(fā)和量產(chǎn)的需求。同時(shí)，該系統(tǒng)在基于大面積納米結(jié)構(gòu)的器件設(shè)計(jì)開(kāi) 發(fā)，尤其是在設(shè)計(jì)參數(shù)到試產(chǎn)驗(yàn)證的快速迭代環(huán)節(jié)中能發(fā)揮巨大的作用。

可選配特征尺寸調(diào)制模塊：對(duì)特征尺寸進(jìn)行可定制化的空間調(diào)制，可用于提 高結(jié)構(gòu)尺寸均勻性或根據(jù)設(shè)計(jì)要求調(diào)節(jié)尺寸變化。

圓晶級(jí)曝光 標(biāo)準(zhǔn)配置的 HIL 1000 系統(tǒng)可以通過(guò)一次曝光實(shí)現(xiàn)在 3 英寸晶圓上 制造均勻的周期性納米結(jié)構(gòu)。通過(guò)選配升級(jí)，增加特征尺寸調(diào)制模 塊還可以將曝光區(qū)域的最大面積擴(kuò)展到 4 英寸，同時(shí)具備更好的線(xiàn) 寬均勻性。

高分辨率納米圖案 HIL 1000 系統(tǒng)能制備特征尺寸低于 50 nm 的納米結(jié)構(gòu)。其加工出 的超高深寬比的光刻膠矩形截面非常有助于后續(xù)的刻蝕和沉積等加 工工藝。

快速光路重構(gòu) HIL 1000 系統(tǒng)配備的快速光路重構(gòu)模塊和高精度工件臺(tái)有助于制 造具有不同周期和幾何形狀的納米圖案，包括一維線(xiàn)柵和納米點(diǎn)、 孔、棒、棋盤(pán)格等二維陣列。

特征尺寸調(diào)制 HIL 1000 系統(tǒng)可以選配特征尺寸調(diào)制模塊。該模塊通過(guò)精密調(diào)制 納米結(jié)構(gòu)的占空比，可提高單次曝光區(qū)域內(nèi)的納米圖案均勻性，擴(kuò) 大單次曝光的區(qū)域，同時(shí)也可用于實(shí)現(xiàn)特定設(shè)計(jì)的特征尺寸的晶圓 級(jí)空間調(diào)制。

激光干涉光刻（也稱(chēng)全息光刻）是一種無(wú)需掩膜的光刻技術(shù)， 可以實(shí)現(xiàn)以高通量的方式大面積制造周期性納米結(jié)構(gòu)。 在傳 統(tǒng)的干涉光刻系統(tǒng)的配置中，相干光源通常被分成兩個(gè)子光 束，并以一定角度形成干涉條紋，通過(guò)投射到涂有光刻膠的 晶圓表面來(lái)制造周期性納米結(jié)構(gòu)。干涉圖案的周期可由公式  ?=λ/2sinθ 推算，其中 λ 是光源的波長(zhǎng)，θ 是兩個(gè)子光束形 成的夾角的一半。