主要技術(shù)參數(shù)：

1 設(shè)備外觀：噴塑處理

外形尺寸：720（寬）×620（高）×600（深）不含機械泵

2 反應倉材質(zhì)：不銹鋼、反應倉尺寸：250（寬）×200（高）×250（深）

3 等離子體頻率：13.56MHz

4 射頻電源功率：0-300W 可調(diào)

5 設(shè)備功率：≤1kW

6 控制方式：

等離子清洗機采用包括觸摸屏人機界面的 PLC 控制，操作方式包括自動模式和手動模式。在自動模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理，可同時存儲50組不同的配方。使用時只需要將相應配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理，設(shè)備操作員、工藝人員、維護人員使用不同口令管理不同參數(shù)，提高設(shè)備安全性。手動模式用于實驗工藝以及設(shè)備維護維修。

7 MFC 質(zhì)量流量計控制（標準配置2路）

8 氣體流量：

工藝氣體(氧、氬等)： (0～200)ml/min  （標準氣壓,0℃)

9 工作氣體(標配為氧、氬)接口壓力：0.1MPa  （若需其它氣體需作聲

明）凈化冷卻氣體（氮氣）接口壓力：0.5MPa

10 設(shè)備工作節(jié)拍：空運轉(zhuǎn)單次清洗時間≤5min

11 設(shè)備MES兼容接口：設(shè)備通過數(shù)據(jù)網(wǎng)絡(luò)將工藝參數(shù)傳輸至MES平臺

更多選擇可咨詢，如4寸等離子清洗機、多層等離子清洗機。