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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器PX 3062
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設備PX 2287
FPSUR-PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站PX 4459
FPGEOL-PFG-03C-filmroll全色激光全息膜卷PX 3032
uGmni-200/300日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合PX 4222
CVTD 材料氣相輸運與沉積系統(tǒng)PX 1550
ACU20FDH-LH沉積設備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 3970
AL-1無針孔薄膜沉積設備PX 1950
Sputter-2000W生產(chǎn)型 TGV TSV TMV 高真空磁控濺射鍍膜機PX 0
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器PX 3062
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源PX 3062
Nikalyte NL-50磁控濺射儀PX 3062
生產(chǎn)型 磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機PX 0
PVD-1000B系列生產(chǎn)型磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機PX 0
FPKOR-HEX-PVD臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)PX 3032
FPCTE-Play-ALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)PX 4459
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),原子層沉積設備PX 4459
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng)PX 4459
FPANG-AMOD物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā)PX 4459
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜PX 4459
SV-200 SV-4540 SV-6040日本ULVAC愛發(fā)科大型設備濺射SV-9045PX 4222
NEXUS IBD離子束沉積設備PX 1950
OCTOS™自動薄膜沉積簇工具PX 1950
ESC-101新型離子槍PX 1950
KaLine 8V部件鍍膜設備PX 1950
For Half Mirror Coating部件鍍膜設備PX 1950
HVD-1800 Series部件鍍膜設備PX 1950
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Lumina AS/P金屬有機物化學氣相沉積設備PX 1950
Roll to Roll Sputtering卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1950
Propel HVM GaN金屬有機化學氣相沉積PX 1950
KaRoll RTR1C卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 1950
MEB-600/800熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機設備PX 0
MSP-300/400/5100/6200磁控濺射鍍膜設備PX 0
薄膜生長設備
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光刻及涂膠顯影設備
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其它半導體行業(yè)儀器設備
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源
Nikalyte NL-50磁控濺射儀
全色激光全息膜卷
脈沖激光沉積系統(tǒng)工作站
臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)
日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設備單晶圓復合
真空等離子體涂覆薄膜沉積設備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
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