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LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 3249
PLUTO-M型等離子表面處理機(jī)廠家PX 2285
VP-Q10微波等離子去膠機(jī)PX 4637
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 2014
KT-S2DQX小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)PX 3324
低溫等離子處理設(shè)備PX 5020
德國(guó)進(jìn)口PVA TePla IoN Wave 10E等離子去膠機(jī) 售后齊全PX 3620
等離子去膠機(jī)PX 1560
PR-3離子去膠機(jī)PX 2836
NEO系列TRYMAX 等離子除膠機(jī)PX 3335
customized槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備PX 1950
Tergeo小型等離子去膠機(jī)PX 3628
PR-3離子去膠機(jī)PX 2794
PR-3離子去膠機(jī)PX 3283
PLUTO-MH 等離子處理機(jī)/去膠機(jī)PX 2483
等離子去膠機(jī)PX 3249
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機(jī)PX 3249
研發(fā)用等離子去膠機(jī)PX 3249
Q150微波等離子去膠清洗機(jī)PX 3249
ASTRO96全自動(dòng)微波等離子清洗系統(tǒng)PX 3249
AL76C立式微波等離子去膠清洗機(jī)PX 3249
AL76微波等離子去膠清洗機(jī)PX 3249
AL18微波等離子去膠清洗機(jī)PX 3249
LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)PX 3249
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)PX 3249
SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)PX 3249
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)PX 3249
NPC-4000(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 3249
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 3249
NPC-3500(A)全自動(dòng)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 3249
NPC-3500(M)等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 3249
NPC-3000等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))PX 3249
VP-RS8等離子體去膠機(jī)PX 4637
VP-RS15等離子去膠機(jī)PX 4637
PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機(jī)廠家PX 2285
PLUTO-T-MHz實(shí)驗(yàn)室小型桌面等離子清洗機(jī)PX 2285
PLUTO-MH等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)PX 2285
PLUTO-M型等離子表面處理機(jī)/清洗機(jī)PX 2285
PLUTO-T-MHz小型等離子清洗機(jī)PX 2285
PLUTO-30型等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)/去膠機(jī)PX 2285
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
德國(guó)進(jìn)口PVA TePla IoN Wave 10E等離子去膠機(jī) 售后齊全
等離子去膠機(jī)
等離子清洗&去膠機(jī)
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
去膠清洗機(jī)
IoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)
去膠機(jī)
單片濕法去膠機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
等離子表面處理機(jī)廠家
等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備
小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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