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2023
04-12

EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對準(zhǔn)光刻機
相較上一代平臺，全新自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（IQAlignerNT）產(chǎn)出率和對準(zhǔn)精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應(yīng)用微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場晶圓鍵合和光刻設(shè)備LINGXIA...
2023
04-12

光刻創(chuàng)新技術(shù)：EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術(shù)
1.介紹對電子設(shè)備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎(chǔ)架構(gòu)從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜诟呒壏庋b和異構(gòu)集成的數(shù)字光刻技術(shù)。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉(zhuǎn)向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此，對...
2023
04-12

MicroSense位移傳感器簡介
一、優(yōu)勢簡介：MicroSense的高精度電容式位移傳在感器，除具有一般非接觸式儀器的共性外，還具有信噪比高、靈敏度高、零漂小、頻響寬、非線性小、精度穩(wěn)定性好、抗電磁干擾能力強、使用方便等優(yōu)點，在國內(nèi)...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（結(jié)果與討論）
３結(jié)果與討論３.１顯影時間影響經(jīng)過無掩模光刻機曝光后，目標(biāo)圖案已轉(zhuǎn)移至ＩＴＯ玻璃上。將ＩＴＯ玻璃放置于加熱板上進行加熱，烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分，使光刻膠與ＩＴＯ玻璃結(jié)合更加緊密，此時，經(jīng)過曝光的...
2023
04-12

基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（引言+實驗）
１引言ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ）又稱氧化銦錫，是一種銦錫金屬氧化物，因其具有光學(xué)透明性［１］、高導(dǎo)電性［２］、易加工性［３］及柔性潛力［４］等優(yōu)點，目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領(lǐng)域...
2023
04-10

超聲波清洗機能清洗硅片嗎？
可以的。隨著半導(dǎo)體材料技術(shù)的發(fā)展，對硅片的規(guī)格和質(zhì)量也提出更高的要求，適合微細(xì)加工的大直徑硅片在市場的需求比例將日益加大。半導(dǎo)體,芯片,集成電路,設(shè)計,版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進的切、...
2023
03-14

ThetaMetrisis膜厚儀用于電池隔膜厚度測量
介紹：鋰電池由正極、負(fù)極和電解液組成。隔膜是形成微孔層的高分子膜，放置在電池的正負(fù)極之間，使正負(fù)極保持分開以防短路，同時確保離子電荷載體的傳輸。隔膜的結(jié)構(gòu)和特性會顯著影響電池的性能，例如能量、功率密度...
2023
03-08

可以讓產(chǎn)品變性的機器，等離子清洗機？
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是：（1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了...
2023
02-20

EVG突破用于半導(dǎo)體高/級封裝的掩模對準(zhǔn)光刻技術(shù)中的速度和精度障礙
面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對大批量先進封裝應(yīng)用的新的，先進的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。新型I...
2023
02-20

EVG使用300mm晶圓光刻機制造MEMS透鏡
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWalt...
2023
02-20

【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準(zhǔn)和測試精度
在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域為晶片接合和光刻技術(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準(zhǔn)測試機，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...
2023
02-20

制造芯片的難題之光刻技術(shù)和掩模版制作
一、簡介第四次工業(yè)革命以數(shù)年前尚不存在的技術(shù)席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經(jīng)在公共街道上進行測試；無人機正在調(diào)查地形，拍攝視頻，派發(fā)包裹；由專業(yè)人士和業(yè)余愛好者創(chuàng)建的...
2023
06-08

光學(xué)光刻技術(shù)（Optical lithography）
1.簡介光學(xué)光刻（Opticallithography），也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備（接近式光刻機）2.1...
2023
02-16

光刻技術(shù)有哪些分類
光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法?？梢酝ㄟ^以下兩種基本方法來實現(xiàn)圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。設(shè)定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機...
2023
02-14

光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測量
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，...
2023
01-11

光刻機是干什么用的，工作原理是什么？
一、用途光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。二、工作原理在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能...
2023
01-10

光刻機的制造為什么這么難？
近半個世紀(jì)以來，硅一直是世界科技繁榮的焦點，芯片制造商幾乎都在壓榨它的性能。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達到極限，芯片制造商不得不尋求其他技術(shù)，將更多的晶體管塞到硅上，從而制造出更強大的芯...
2023
01-10

帶你了解光刻機
光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光刻技術(shù)。如今的世界是一個信息社會，而光刻技術(shù)是制造承載信息的載體的關(guān)鍵技術(shù)，具有不可替代的作用。一、光刻技術(shù)...
2022
12-14

紅外測厚儀如何測量厚度？其原理是什么？
紅外測厚儀對水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度有著十分重要的意義，它擔(dān)負(fù)著傳遞目標(biāo)信息的作用，直接影響檢測水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠等厚度的準(zhǔn)確度。今天，給大家講一下紅外測厚儀是怎么工作的？可應(yīng)用在...
2022
11-25

隔振臺應(yīng)用介紹
一、特點固有振動頻率是指某種物體共振的頻率，阻尼則是指在振動運動中消除能量、以減輕振動的特點。固有振動頻率與地基振動的振動頻率比（f/fn）稱作振動傳遞率，是判定隔振效果的標(biāo)準(zhǔn)。固有振動頻率愈小、地基...

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