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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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更新時(shí)間：2024-05-16 12:06:47瀏覽次數(shù)：5043
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷 |
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當(dāng)氣體暴露在電子區(qū)域時(shí)可以形成等離子體。如果該區(qū)域氣流足夠強(qiáng)，高比例的氣體原子將服從電子或兩個(gè)成為已電離的。由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放的高能電子組成的氣體等離子或離子。已電離的氣體原子的動(dòng)能相對(duì)較小，除非他們通過(guò)電場(chǎng)加速。加速時(shí)，他們會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。等離子體效應(yīng)的過(guò)程轉(zhuǎn)換成材料的蝕刻工藝?；钚詺怏w在分子級(jí)上的使用也產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)。
氣體等離子體類型：各向異性等離子體是有方向性的，由電氣控制一些具體的高能離子，或某個(gè)范圍的能量（見(jiàn)美國(guó)鋁框系統(tǒng)）。
各向同性等離子體是多方位和包含整個(gè)的3 – D等離子的設(shè)備（見(jiàn)美國(guó)石英筒備系統(tǒng)）。
氣體等離子體處理了超過(guò)濕化學(xué)處理幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。液體的表面張力的現(xiàn)象消除，正如泡沫的形成，這可能會(huì)導(dǎo)致不*濕化。等離子蝕刻可以迅速結(jié)束，終止進(jìn)程，而液體蝕刻工藝很難準(zhǔn)確的結(jié)束。
“綠色”的優(yōu)勢(shì)：無(wú)氟氯化碳和污水，操作和環(huán)境安全。排除有毒和腐蝕性的液體。等離子處理的主要缺點(diǎn)是較低的吞吐量。
我們致力于氣體等離子處理，即讓氣體在常溫下，無(wú)熱相變下改變。這些氣體可以是惰性的，也可以是起反應(yīng)的。在反應(yīng)性氣體的情況下，利用動(dòng)量轉(zhuǎn)移處理以及氣體反應(yīng)的化學(xué)性質(zhì)改變材料的特性。
鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)Aluminum Chamber Plasma Systems
SCE 14鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)
長(zhǎng)寬高356毫米的立方體腔體
外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 (w,d,h)
SCE 18鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)
長(zhǎng)寬高457毫米的立方體腔體
外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米(w,d,h)
SCE 24鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)
長(zhǎng)寬高610毫米的立方體腔體
外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 (w,d,h)
SCE30鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng)
長(zhǎng)寬高762毫米的立方體腔體
外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米(w,d,h)
石英滾筒等離子系統(tǒng)Quartz Barrel Plasma Systems
4" diameter x 8" long
102毫米直徑 x 203毫米長(zhǎng)腔體
外形尺寸26" H x 23" W x 30" D 660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D
SCE 106石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
6" diameter x 8"long
152毫米直徑x 203毫米長(zhǎng)腔體
外形尺寸 26" H x 23" W x 30" D 660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D
SCE108石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
8" diameter x 8"long 腔體
203毫米直徑x203毫米長(zhǎng)
外形尺寸 26"H x 23"W x 30"D 660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D
SCE110石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
10" dia x 18" L long
254毫米直徑x 457毫米長(zhǎng)腔體
外形尺寸36"H x 21"W x 30"D 914毫米Hx533毫米W x 762毫米 D
SCE 115石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
10" dia x 18" L long
254毫米直徑x 457毫米長(zhǎng)腔體
外形尺寸22" W x 36" H x 27" D 559毫米x914毫米H x 686毫米 D
SCE150石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
10" dia x 18"L 2 4毫米直徑x 457毫米長(zhǎng)腔體
SCE 604石英滾筒等離子處理系統(tǒng)
Four (4) chambers 4" x 8" diameter Quartz
4個(gè)腔體102毫米x203毫米直徑石英腔體
玻璃等離子系統(tǒng)Tumbler Plasma Systems
SCE 10等離子處理系統(tǒng)
SCE 18等離子處理系統(tǒng)
Aluminum Basket (457毫米 x 1016毫米)
控制系統(tǒng)Control System
• PLC - "Touch-Panel" operation
PLC 觸摸面板操作
• Digital count down timer (hrs, min, sec)
數(shù)字倒計(jì)時(shí)定時(shí)器（小時(shí)，分，秒）
• Digital On-Screen vacuum display
數(shù)碼屏幕真空顯示器
• Gas flow with needle valve control
氣體流量針形閥控制
• Manual tuning standard
手動(dòng)校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)
• Optional: Automatic RF tuning for load match
• 可選的：自動(dòng)射頻調(diào)整與負(fù)載匹配
反應(yīng)腔體Reactor Chamber
• 4" diameter x 8" long quartz chamber
• 4英寸直徑x8英寸長(zhǎng)的石英艙體
• RF shielded
• 射頻屏蔽
• Front load
• 前負(fù)荷
尺寸：Dimensions
• 26" H x 23" W x 30" D
• 26英寸（H）x23英寸（W）x30英寸（D）
• 275 lbs Crated weight
• 275磅包裝重量。
射頻功率源RF Power Source
• 0-150 Watt RF 13.56 MHz supply
• 0-150 W射頻13.56兆赫茲供應(yīng)
• Forward and reflected power readings
• 正向和反射功率讀數(shù)
• Low frequency optional
• 低頻選項(xiàng)
