X-ray應(yīng)用薄膜窗口（電鏡其他用品）

有兩種薄膜，低應(yīng)力lpcvd氮化硅膜具很強機械強度，適合高溫和差壓環(huán)境；G-FLAT™氧化硅膜平坦無褶皺，非常適合x射線顯微鏡和需要無氮氣背景的分析。這些薄膜窗口是X射線顯微鏡和x射線光譜學(xué)技術(shù)的理想襯底，經(jīng)過等離子清洗，無有機污染。平坦、均勻沉積的薄膜具有低場到場可變性和高x射線透射性。

G-FLAT™氧化硅膜窗口，適合生物成像研究，具有玻璃狀親水表面。外框硅材質(zhì)，外框大小5*5mm，框厚310µm，膜厚度300nm。無褶皺，與超高真空(UHV)應(yīng)用兼容。

LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320µm，200 MP 低應(yīng)力無孔氮化硅。

X-ray應(yīng)用薄膜窗口（電鏡其他用品）信息：

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