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自動(dòng)熱處理爐/陶瓷熱處理爐
| 美國Thermal Technology自動(dòng)熱處理爐(APF Automatic Processing Furnace systems)與陶瓷熱處理爐(CPF Ceramic Processing Furnace systems)可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)、無人值守操作，可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率>100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選?？稍跔t頂與爐底裝備加熱器，整個(gè)熱區(qū)的溫度均勻性*。
美國Thermal Technology的APF與CPF系列爐具適于對(duì)高純度的進(jìn)陶瓷材料進(jìn)行熱處理，避免了其對(duì)傳統(tǒng)石墨爐污染的敏感性。APF與CPF的高真空和高溫使其也適于難熔金屬的加工。不含真空泵的APF與CPF可以通入惰性或還原性氣氛。
系統(tǒng)組成：真空腔，金屬熱區(qū)，電源，真空泵，可編程控制系統(tǒng)；可定制升。 系統(tǒng)的熱區(qū)可在多種環(huán)境內(nèi)工作：濕/干氫氣、離解干氨、惰性氣體、氮?dú)?、真空等?span style="box-sizing: border-box; text-indent: 2em;">加熱體根據(jù)不同的工作溫度使用鉬片、鉬網(wǎng)、鎢網(wǎng)等，表面積大，可提高工作區(qū)的溫度均勻性。多種產(chǎn)量、溫度、處理能力可選，滿足您的多種需求。 |
APF與CPF系列產(chǎn)品點(diǎn)
* 好的溫度均勻性 * 快速的循環(huán)時(shí)間 * 編程與控制 * 處理進(jìn)程序列控制 * 易于裝料 * 自動(dòng)處理 * 性能穩(wěn)定 * 可同時(shí)作為高溫真空爐 | * 溫度高達(dá)2500°C * 快速的熱響應(yīng) * 露點(diǎn)檢測與控制 * 濕/干 氫氣氛 * 對(duì)參數(shù)變化的快速響應(yīng) * 多種尺寸、產(chǎn)能可選 * 可供燒金屬化陶瓷 * 控制氣氛防護(hù) |
加熱體 | 輻射屏蔽 | 溫度可達(dá) | 常規(guī)溫度 |
鎢 | 鎢&鉬 | 2500°C | 2200°C |
鉬 | 鉬&不銹鋼 | 1700°C | 1600°C |
設(shè)備型號(hào)
APF 0925-MM |
APF 2036-WW |
CPF 121212W-WW |
APF 0716-MS |
立式真空爐
THERMAL TECHNOLOGY全自動(dòng)立式真空爐采用圓柱形加熱體，在低功率下可以控制形成均的溫度，因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時(shí)也可以保護(hù)工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設(shè)計(jì)有助于延長在高工作溫度下的壽命。
立式的APF/CPF爐具采用冷壁設(shè)計(jì)，具有輻射防護(hù)。頂部/底部裝卸與鐘罩升降等批量處理爐可選。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔由液壓驅(qū)動(dòng)升離底盤與爐床，便于裝卸工件與設(shè)備。采用新的微處理器控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)修改。
裝完工件，設(shè)置程序處理序列后，所有操作*自動(dòng)，操作完成后系統(tǒng)會(huì)發(fā)出信號(hào)提示。
型號(hào) | 工作區(qū)尺寸 | 工作區(qū)容量 | 處理量 |
APF-0716 | Ф 6” x 12“ | 0.2 立方英尺 | 40 磅 |
APF-0925 | Ф 8” x 16” | 0.5 立方英尺 | 75 磅 |
APF-1230 | Ф 10” x 20” | 0.9 立方英尺 | 150 磅 |
APF-1836 | Ф 15”x 28” | 3.1 立方英尺 | 500 磅 |
APF-2444 | Ф 20”x 36” | 6.5 立方英尺 | 1000 磅 |
APF-3060 | Ф 24”x 48” | 12.6 立方英尺 | 1500 磅 |
APF-4060-MS | Ф 36" x 48" | 17.2 立方英尺 | 1500 磅 |
CPF-0716-MS | Ф 4”x 10” | 0.1 立方英尺 | 40 磅 |
CPF-0925-MS | Ф 5.5”x 14” | 0.2 立方英尺 | 75 磅 |
CPF-1230-MS | Ф 8.5”x 16” | 0.5 立方英尺 | 150 磅 |
CPF-1836-MS | Ф 12.5”x 20” | 1.4 立方英尺 | 500 磅 |
CPF-2444-MS | Ф 17.5”x 24” | 3.3 立方英尺 | 1000 磅 |
CPF-3060-MS | Ф 21.0”x 36” | 7.2 立方英尺 | 1500 磅 |
Top | 5Фx 10 | 0.1 | 612 |
Top | 10Фx 14 | 0.6 | 1218 |
Bottom | 13Фx 18 | 1.4 | 1624 |
臥式真空爐
臥式真空爐采用網(wǎng)狀加熱體，低功率下可以控制形成均的溫度，因此能延長加熱體的壽命。多重輻射罩在節(jié)省能量的同時(shí)也可以保護(hù)工作環(huán)境、加快熱循環(huán)速度。熱區(qū)設(shè)計(jì)有助于延長在高工作溫度下的壽命。臥式真空爐多可配備6個(gè)立熱區(qū)，可實(shí)現(xiàn)好的溫度均勻性。
臥式的APF/CPF爐具采用冷壁設(shè)計(jì)，具有輻射防護(hù)，均為前部裝卸的批量處理爐。爐體的雙層爐壁與不銹鋼爐腔前部留有裝料口。采用新的微處理器控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)數(shù)字化溫度控制與處理序列，每次可以存入超過50條處理程序。程序輸入方便，并可以在操作過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)修改。
裝完工件，設(shè)置程序處理序列后，所有操作*自動(dòng)，操作完成后系統(tǒng)會(huì)發(fā)出信號(hào)提示。
裝料方式 | 工作區(qū)尺寸 (英寸) | 工作區(qū)容量(立方英尺) | 型號(hào) |
前部 | 12 x 12 x 12 | 1.0 | 121212 |
前部 | 12 x 12 x 24 | 2.0 | 121224 |
前部 | 16 x 16 x 32 | 4.8 | 161632 |
前部 | 16 x 16 x 48 | 7.0 | 161648 |
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Ti Reactive Sintering of Electrically Conductive Al2O3–TiN Composite: Influence of Ti Particle Size and Morphology on Electrical and Mechanical Properties, Materials 2017, 10, 1348.
