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高壓氧氣氛退火爐
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產(chǎn)品簡介 德國SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達850°C，壓力可達150個大氣壓。可用于高壓晶體生長的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。 爐體直徑15mm，長度200mm，溫度均勻。 溫度、壓力可定制更高。
應用域 可用于高壓晶體生長的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。
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應用案例
高壓氧氣氛退火裝置在鈣鈦礦化合物Nd1-xSrxNiO3材料制備中的應用進展
由于平面四邊形配位的低價鎳氧化物具有跟銅酸鹽超導體類似的電子數(shù)和軌道雜化點，因此，自銅氧化物中發(fā)現(xiàn)超導電性以來，低價鎳氧化物也直是廣大研究人員的研究熱點材料之。尤其，2019年科學家在SrTiO3襯底上生長的Nd1-xSrxNiO2薄膜中觀察到了高達15 K的超導電性，這報道再次引發(fā)了人們對無限層RNiO2（R=Nd，La）化合物的興趣。質RNiO2相樣品的獲得對于從實驗上研究其物理機理是至關重要的前提條件。目前已報道的RNiO2相的制備方法是通過向Nd1-xSrxNiO3中加入還原劑進而還原得到Nd1-xSrxNiO2。然而，從NiO中得到Nd1-xSrxNiO3相需要將Ni2+提升至Ni3+x，因此其制備過程中必須要采用高壓氧氣氛。
近期，美國阿貢國家實驗室Bi-Xia Wang等人采用溶膠-凝膠和高壓退火結合技術合成了鈣鈦礦化合物Nd1-xSrxNiO3 (x = 0, 0.1 and 0.2)，文獻中所使用的高壓退火工藝條件為：燒結溫度1000°C， 氧壓150-160bar。相關成果已發(fā)表在Phys. Rev. Materials（DOI: 10.1103/physrevmaterials.4.084409）。
在該項研究中，作者使用的高壓退火裝置即為德國SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐，該設備可實現(xiàn)1100°C高溫，160bar高壓，也可根據(jù)用戶需求定制更高的溫度和壓力。同時，該設備也具備多種安全防護機制，可有效保證設備安全運行，是高壓晶體生長的料棒前處理和含氧晶體高溫退火處理的器。
德國SciDre 高壓氧氣氛退火爐裝置
參考文獻
Bi-Xia Wang, Hong Zheng, E. Krivyakina, O. Chmaissem, Pietro Papa Lopes, J. W. Lynn, Leighanne C. Gallington, Y. Ren, S. Rosenkranz, J. F. Mitchell, and D. Phelan, Phys. Rev. Materials, 4, 084409 – Published 21 August 2020.
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發(fā)表文章
1. (2020)Synthesis and characterization of bulk Nd1-xSrxNiO2 and Nd1-xSrxNiO3 . Phys. Rev. Materials, 4, 084409 – Published 21 August 2020.
用戶單位
美國阿貢國家實驗室
