磁性材料的顯微觀測有助于材料的微觀結(jié)構(gòu)及其形成機(jī)理的研究，隨著科研的發(fā)展，磁性材料研究的尺度已經(jīng)趨向于亞微米甚至納米。因此，超高分辨和超高靈敏度的測試有助于對這些小尺寸的材料進(jìn)行研究。源自瑞士蘇黎世聯(lián)邦理工大學(xué)自旋物理實(shí)驗(yàn)室的Qzabre公司，結(jié)合多年的NV色心的磁測量技術(shù)與掃描成像技術(shù)開發(fā)出的基于NV色心的超分辨量子磁學(xué)顯微QSM系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)高靈敏度和高分辨率的磁學(xué)成像，并且可以實(shí)現(xiàn)定量的磁學(xué)分析，使得它成為下代掃描探針顯微鏡——基于NV色心的超分辨量子磁學(xué)顯微鏡。相比于傳統(tǒng)的顯微觀測設(shè)備如克爾顯微鏡（分辨率~300 nm），磁力顯微鏡MFM(分辨率~50 nm )，該設(shè)備除了擁有于30 nm的磁學(xué)分辨率外，還可以進(jìn)行樣品表面磁場大小的定量測試，而且NV色心作為單自旋探針, 所產(chǎn)生的磁場不會對待測樣品有擾動，在磁學(xué)顯微成像上有著顯著的勢。

QSM系統(tǒng)典型應(yīng)用

√  磁性納米結(jié)構(gòu)分析

√  鐵磁/反鐵磁磁疇成像

√  磁疇壁分析

√  電流分布成像

√  納米尺度的溫度測量

√  多鐵材料掃描

√  磁場任意波形時(shí)間分辨

QSM系統(tǒng)掃描成像原理簡介

金剛石NV色心為金剛石中個(gè)氮原子取代碳原子同臨近的空位形成的缺陷，它的電子能為自旋三重態(tài)，其基態(tài)ms=0與ms=±1（簡并態(tài)）存在2.87GHz的零場分裂，在外磁場B作用下，ms=±1解除簡并發(fā)生分裂。NV色心的自旋狀態(tài)可通過激光和微波實(shí)現(xiàn)操作和探測，通常采用光學(xué)探測磁共振（ODMR）的方法測量外加磁場，此時(shí)NV色心處于微波作用下，當(dāng)微波能量剛好等于ms=±1基態(tài)電子與ms=0基態(tài)電子的能差時(shí)發(fā)生共振，此時(shí)熒光探測表現(xiàn)為低谷。Ms=+1和Ms=-1基態(tài)的能差為△f=2γB，△f可以通過ODMR譜的兩個(gè)共振峰譜得出，γ為NV色心的電子旋磁比，γ=28 MHz/mT ，這樣可以計(jì)算出外磁場B大小。通過掃描探針持續(xù)對樣品表面的磁場進(jìn)行探測后，可以得出樣品表面的磁場分布成像圖。

基于NV色心的超分辨量子磁學(xué)顯微鏡掃描成像原理示意圖

QSM系統(tǒng)主要點(diǎn)

√  超高磁學(xué)分辨率及靈敏度

√  可定量測量樣品表面磁場大小及空間分布

√  化的光學(xué)系統(tǒng)獲得更大的光通過率

√  多種成像模式

√  交鑰匙系統(tǒng)

√  易更換的探針設(shè)計(jì)

√  矢量磁場選件

QSM系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

√  操作模式： NV 模式，NV quenching模式，AFM模式，MOKE模式；

√  NV模式：   磁場空間分辨率：30nm~70nm，

磁場靈敏度：1-10 μT/Hz^(1/2)，(取決于選用探針)；

√  AFM模式：使用Qzabre探針分辨率~250nm，使用Akiyama探針分辨率＜30nm；

√  MOKE模式：使用向克爾顯微模式快速獲取感興趣區(qū)域，視場150μm；

√  掃描范圍：90 μm x 90 μm x 15 μm (閉環(huán)控制, 0.15nm分辨率)；~6mm粗調(diào)（100nm分辨率）；

√  可放置樣品大?。?5mm直徑（標(biāo)準(zhǔn)型），大可到50mm×50mm（定制）；

√  漂移率：6nm/h , 0.3℃溫度穩(wěn)定性；

√  化光學(xué)系統(tǒng)：NA=0.75，＞87% 的光通過率(600~850nm)，比傳統(tǒng)的共聚焦系統(tǒng)增加了＞10% 的光通過率；

√  矢量電磁鐵選項(xiàng)提供任意方向的矢量場高至75 mT；

√  定制樣品托擴(kuò)展直流或微波連接、加熱功能等。

應(yīng)用案例

■  反鐵磁磁疇觀測

反鐵磁材料器件擁有電學(xué)或光學(xué)激發(fā)翻轉(zhuǎn)的性能，在新型磁存儲上有著潛在的應(yīng)用前景，本文通過使用基于NV色心的超分辨量子磁學(xué)顯微研究了電流脈沖注入CuMnAs微器件后弛豫過程中和弛豫后反鐵磁疇織構(gòu)產(chǎn)生的磁雜散場，研究表明大的電阻變化與寫入電流脈沖引起的疇的納米碎裂有關(guān)。通過對具有交叉幾何結(jié)構(gòu)的微器件中電流密度分布的成像，進(jìn)步證明了電流引起的疇結(jié)構(gòu)的變化是不均勻的。在不同延遲時(shí)間獲得的磁雜散場圖像顯示，碎片化的磁疇模式保持著對它們放松的原始狀態(tài)的記憶。該研究揭示了導(dǎo)致金屬反鐵磁體電開關(guān)的微觀機(jī)制，并為今后反鐵磁自旋電子學(xué)域的研究指明了方向。

參考文獻(xiàn)：Current-induced fragmentation of antiferromagnetic domains, M. S. W?rnle, P. Welter, Z. Ka?par, K. Olejník, V. Novák, R. P. Campion, P. Wadley, T. Jungwirth, C. L. Degen, P. Gambardella, arXiv:1912.05287(2019).

■  磁疇壁研究

通常SOT（自旋軌道力矩）誘導(dǎo)的磁疇翻轉(zhuǎn)強(qiáng)烈依賴于磁疇臂的結(jié)構(gòu)，2019年Saül Vélez等人使用NV色心磁學(xué)顯微鏡來揭示TmIG和TmIG/Pt層的磁疇臂磁化情況。如圖4所示，作者對TmIG和TmIG/Pt層進(jìn)行了磁學(xué)顯微測試，并對圖b中的兩個(gè)不同位置TmIG/Pt和TmIG區(qū)域的磁疇邊界d/e進(jìn)行了磁場掃描，經(jīng)過同模擬結(jié)果對比發(fā)現(xiàn)位置d處的磁疇臂處于Left Néel-Bloch中間結(jié)構(gòu)，而到了位置e處的磁疇臂轉(zhuǎn)變成了Left Néel 結(jié)構(gòu)，這些結(jié)果表明磁性石榴石中存在界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用，為穩(wěn)定中心對稱磁性緣體中的手性自旋織構(gòu)提供了可能。

參考文獻(xiàn)：Saül Vélez, et al. High-speed domain wall racetracks in a magnetic insulator. Nature Communications (2019) 10:4750.

■  場成像

微波場的成像和探測對于未來微波器件的工程以及在原子和固體物理中的應(yīng)用具有重要意義。例如，用原子和超導(dǎo)量子比進(jìn)行的腔量子電動力學(xué)實(shí)驗(yàn)，或者量子磁體和量子點(diǎn)的相干控制，都是基于用微波電場或磁場操縱量子系統(tǒng)。因此，精確控制和了解微波近場的空間分布是獲得器件性能的關(guān)鍵。本文通過使用基于NV色心的超分辨量子磁學(xué)顯微對微波電流產(chǎn)生的磁場空間分布進(jìn)行了探測。

參考文獻(xiàn)：P. Appel, New J. Phys.17(2015)112001

■  斯格明子研究

“斯格明子(skyrmion)"是種具有拓?fù)浔Ｗo(hù)性的準(zhǔn)粒子。由于受到拓?fù)浔Ｗo(hù)，相比于傳統(tǒng)的磁存儲基本單元（磁疇），磁斯格明子可以被壓縮到更小的尺寸，而且具有更高的穩(wěn)定性；同時(shí)，它可以被很低的電流所驅(qū)動，因此，被廣泛認(rèn)為是未來實(shí)現(xiàn)高速度，高密度，低能耗磁（自旋）存儲器件的基本單元。2016年，Y. Dovzhenko等人通過NV色心磁學(xué)顯微鏡對磁性斯格明子表面的磁場進(jìn)行了測試，重構(gòu)出表面雜散磁場的分布，對斯格明子的類型具有指導(dǎo)意義。在Bloch 型斯格明子的假定下重構(gòu)出的磁化分布中，中心處z 方向磁化幾乎為零, 也就是磁化方向在面內(nèi), 這樣的結(jié)構(gòu)無法形成個(gè)完整的斯格明子。而Néel 型假定給出的磁化分布更加符合理論模型中斯格明子的磁化分布. 因此, Néel 型的斯格明子更加符合實(shí)驗(yàn)結(jié)果. 對些新穎的磁性斯格明子結(jié)構(gòu), 如納米條帶的邊緣態(tài)和雙斯格明子,基于NV 色心的磁成像能夠?yàn)榻馕銎浯呕Y(jié)構(gòu)提供幫助。

參考文獻(xiàn)：Dovzhenko Y, Casola F, Schlotter S, Zhou T X, Büttner F, Walsworth R L, Beach G S D, Yacoby A 2016 arXiv:1611.00673 [cond-mat].

■  磁性渦旋結(jié)構(gòu)

磁性vortex是種具有手性的磁性結(jié)構(gòu), 在自旋動力學(xué)和磁存儲器件等方面有重要研究價(jià)值。該研究實(shí)驗(yàn)表明，基于NV色心的超分辨磁學(xué)顯微鏡能夠與微磁模擬進(jìn)行強(qiáng)有力的比較，是納米磁性和更普遍的納米科學(xué)基礎(chǔ)研究的有力工具。事實(shí)上，直接測量弱磁場，不受擾動，具有納米的分辨率，可以解決些重要的問題，例如垂直各向異性薄膜中磁疇壁的性質(zhì)，這些磁疇壁控制著薄膜的電流感應(yīng)運(yùn)動。

參考文獻(xiàn)：Rondin, L., Tetienne, J., Rohart, S. et al. Stray-field imaging of magnetic vortices with a single diamond spin. Nat Commun 4, 2279 (2013).

■  納米結(jié)構(gòu)中的電流分布測試

納米結(jié)構(gòu)和薄膜中的電荷輸運(yùn)是許多科學(xué)技術(shù)現(xiàn)象和過程的基礎(chǔ)，由于這種結(jié)構(gòu)的納米尺寸和電流的流動性質(zhì)，直接顯示這種結(jié)構(gòu)中的電荷流具有挑戰(zhàn)性。本次研究使用基于NV色心的超分辨磁學(xué)顯微鏡對二維導(dǎo)體網(wǎng)絡(luò)（包括金屬納米線和碳納米管）中電流密度進(jìn)行磁成像。在電流密度噪聲為～2×104A/cm2的情況下，對直流電流進(jìn)行低至幾個(gè)μA的檢測。重建圖像的空間分辨率通常為50nm，小為22nm。電流密度成像為研究二維材料和器件中的電子輸運(yùn)和電導(dǎo)變化提供了條新的途徑。

參考文獻(xiàn)：Chang et al., Nano Lett. 17 (2017)

■  磁場任意波形時(shí)間分辨

除了進(jìn)行過空間的磁學(xué)分辨外，還可以直接記錄與時(shí)間相關(guān)的磁場，而不需要信號重建。J. Zopes & C. Degen等人使用自旋回波來差分檢測波形的短片段，同時(shí)獲得高的磁場靈敏度(~4μT/Hz1/2)和高的時(shí)間分辨率（~20ns），能進(jìn)行任意波形的檢測?？赡艿膽?yīng)用包括微型射頻發(fā)射器的現(xiàn)場校準(zhǔn)、集成電路中的信號映射檢測、脈沖光電流的檢測和薄膜中的磁開關(guān)等。

參考文獻(xiàn)：J. Zopes & C. Degen, Phys. Rev. Appl. 12, 054028 (2019)