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C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜

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產(chǎn)品型號:/

品       牌:MREDA

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:西安市

更新時間:2020-02-12 18:47:59瀏覽次數(shù):948

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供貨周期 現(xiàn)貨 規(guī)格 10mg
貨號 / 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè)
主要用途 科研
C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜
采用雙陰封閉型非平衡磁場dc反應(yīng)磁控濺射離子鍍制備C3N4/TiN復(fù)合交替膜,用X射線光電子能譜法分析了薄膜的組成,測量了薄膜的X射線衍射譜和氮化碳的透射電子衍射圖像。氮化碳經(jīng)氮化鈦的迫晶化作用,生成了β-C3N4和c-C3N4。

C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜

西安瑞禧生物科技有限公司是一家從事科研試劑、多肽、光電材料、碳納米管、、納米材料、脂質(zhì)體、磷脂的、定制、和銷售的科技生物科技有限公司,公司、,不斷的進行納米材料、多肽,嵌段共聚物的,。,70%;;,接受定制,提供核磁,HPLC,LCMS,GC圖譜 可放心使用;對于科研機構(gòu)支持。

C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜

產(chǎn)品:C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜/復(fù)合硬相氮化碳(α/β-C3N4)/氮化碳改性二氧化鈦親水多孔薄膜。

摘要:

      采用中頻磁控濺射和多弧輔助中頻磁控濺射技術(shù)在硅片、不銹鋼、速鋼以及硬質(zhì)合金等基體材料上制備C_3N_4涂層和C_3N_4/TiN納米復(fù)合涂層,研究了C_3N_4涂層和C_3N_4/TiN納米復(fù)合涂層的結(jié)構(gòu)、物理性能、摩擦磨損、抗水蝕性能,相關(guān)基礎(chǔ)研究成果在汽輪機末級葉片上得到了應(yīng)用。主要結(jié)論如下:

(1)采用中頻磁控濺射技術(shù)在硅片上純C_3N_4薄膜,X射線衍射分析表明薄膜中含有α和β兩種結(jié)構(gòu)的C_3N_4相,其中β相是C_3N_4薄膜的主要結(jié)晶相。光電子能譜和傅立葉紅外光譜分析表明,薄膜中的C、N原子比值在1.06~1.24之間,C原子主要以sp~2和sp~3兩種雜化狀態(tài)存在,C、N原子以C-N鍵為主要鍵合方式。

(2)研制了多弧-中頻磁控濺射,在2Crl3不銹鋼和速鋼基體上沉積C_3N4/TiN納米復(fù)合涂層,所制備涂層硬度40GPa,屬于硬涂層。AFM和SEM分析顯示多弧-中頻磁控濺射制備的C_3N_4/TiN涂層表面狀況、涂層與金屬襯底結(jié)合牢固。

(3)通過對涂層的性能測試及熱沖擊試驗和摩擦磨損性能測試,發(fā)現(xiàn)涂層硬度和附著力受基體材料影響。在涂層的熱沖擊試驗中,2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN復(fù)合涂層抗熱沖擊性能,在400℃以下,涂層幾乎沒有變化。在550℃時,發(fā)現(xiàn)在涂層的表面出現(xiàn)氧化物。摩擦磨損試驗發(fā)現(xiàn)隨著載荷的增加,摩擦系數(shù)有逐步增加的傾向,同時涂層和對偶球的磨損也逐步增加。C_3N_4/TiN復(fù)合涂層具有的抗摩擦磨損性能。

(4)在探討汽輪機末級葉片水蝕失效機理的基礎(chǔ)上,研制了水蝕試驗裝置并對設(shè)備的基本參數(shù)進行了測試。不銹鋼基體、鉻鑄鐵、鈷基合金的水蝕速率和水蝕破壞機理研究表明,研制的設(shè)備能對水蝕狀況進行的,設(shè)備具有、性能穩(wěn)定、等。

(5)鉻鑄鐵、鈷基合金和涂C_3N_4/TiN涂層的2Crl3不銹鋼等不同材料的抗水蝕性能對比試驗發(fā)現(xiàn),2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN涂層的抗水蝕性能比2Crl3不銹鋼基體提了將近50倍,優(yōu)于目前外使用的鈷基合金,比鈷基合金提了3倍。

(6)2Crl3不銹鋼基體上C_3N_4/TiN涂層的水蝕破壞形貌研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)水滴撞擊次數(shù)一定的次數(shù)后,在涂層的表面,裂紋從應(yīng)力集中區(qū)域萌生,隨著水滴撞擊次數(shù)的增加而擴展,后導(dǎo)致表面一定數(shù)量的涂層脆性斷裂,當(dāng)表面涂層脆斷剝落之后,水滴直接作用在涂層次表面上,涂層的斷裂方式為逐層脆斷方式。

(7)上述研究成果在電廠50MW汽輪機2Crl3不銹鋼末級葉片上得到了應(yīng)用,C3N4/TiN復(fù)合涂層抗水蝕性能。

產(chǎn)品供應(yīng)列表:

聚多巴胺修飾的黑磷納米片

黑磷納米片和半解開碳納米纖維復(fù)合材料

黑磷納米片負載二硫化鉬納米片

黑磷石墨烯復(fù)合納米造影劑

黑磷量子點/凹凸棒納米復(fù)合BPQD/ATP

黑磷量子點/碳化鈦納米片復(fù)合材料

黑磷量子點/g-C3N4復(fù)合光催化劑

帶隙可調(diào)的黑磷量子點光催化劑

分子聚合物(PLGA)包裹黑磷量子點(BPQDs)的核殼結(jié)構(gòu)納米球(BPQDs/PLGA)

二維黑磷納米片的液相剝離

黑磷量子點(BP QDs)

黑磷納米片表面修飾納米金

黑磷納米片表面修飾納米鉑

黑磷量子點(BPQDs)脂質(zhì)體

納米黑磷/三維石墨烯復(fù)合材料

氧化錫納米管負載黑磷量子點

人血清白蛋白修飾黑磷量子點

黑磷納米修飾了特異性靶向多肽

二維層狀金屬碲化物[Mn(en)3]Ag2Sn2Te8

二維二碲化鉬(Mo Te2)材料

碲(Te)一維納米材料

碲化鉍(Bi2 Te3)-碳纖維水泥基材料

碲化銻(Sb2Te3)納米材料

納米碲碳復(fù)合物(nano-Te@C)

二維碲化鉍晶體材料

多孔碳/碲(RHPC/Te)復(fù)合材料

碲(Te)納米粉體顆粒

Cd-Te基熱電材料

一維納米材料Te納米管

窄帶半導(dǎo)體材料碲化鉛(PbTe)

二維Te/SnS2納米片的光子二管

二維過渡金屬硒化物與碲化物量子點

金屬三組元層狀碲化物TaNi2Te2

Nb/Ta層狀碲化物

金屬碲化物[Ga(en)3]In3Te7

石墨烯基硒和碲納米復(fù)合物

薄二維納米材料(Bi&Bi2Te3)

二維碲化鉍晶體材料

三組元碲化物CrNb2Te4

碲化鉛基塊體納米材料

碲化物(RuTe2-OsTe2)

TI10-xLnxTe6碲化物

硒碲化合物半導(dǎo)體納米材料

二元過渡金屬硫族化合物碲化鉬(MoTe2)

,、,提供核磁,HPLC,LCMS,GC圖譜 ,,如遇任

何質(zhì)量問題,

溫馨提示:西安瑞禧生物供應(yīng)產(chǎn)品用于科研,不能用于人體(wyf2020.02.12

羧基修飾二硫化鎢復(fù)合薄膜

羧基修飾二硫化鎢復(fù)合薄膜$r$n羧基(carbox

聚乙烯醇/聚多巴胺-氮化碳滲透

聚乙烯醇/聚多巴胺-氮化碳滲透汽化復(fù)合膜$r$n復(fù)

C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮

C3N4/TiN復(fù)合硬薄膜/氮化碳-氮化鈦復(fù)合膜$

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