TriStar II Puls 全自動比表面積與孔隙度分析儀直接處理吸附數(shù)據(jù)，通過簡單的移動計算條，一鍵式訪問重要的參數(shù)，允許用戶自定義多達五份報告，可在屏幕上預覽，在一個易于使用的應用程序中快速查看微孔、中孔和大孔分布，CO2可在低溫下進入很小的微孔，而N2由于尺寸限制、鏈接問題以及擴散緩慢等原因進入不了這些微孔，制備系統(tǒng)可為比表面和孔隙度分析制備樣品，它使用流動加熱或者真空加熱達到去除樣品表面例如水和其他吸附氣體的目的。

技術參數(shù)：

1、溫度穩(wěn)定度：±0.1℃；

2、可控分辨力：0.1℃；

3、冷卻功率：0°C時約為80W；

4、溫度范圍：-5°C至75°C；

5、型號：TriStar II Puls。

產(chǎn)品特點：

1、功能性、操作性、使用性都是比較穩(wěn)定可靠；

2、雙模式操作校準模式比較簡單，一鍵校準節(jié)省時間；

3、全鋼結(jié)構(gòu)一體成型，堅固的設計方案和實際應用步驟；

4、技術相當成熟穩(wěn)定，不占空間，方便外出攜帶工作；

5、設備的應用性簡單，使用方便，無復雜流程。

TriStar II Puls 全自動比表面積與孔隙度分析儀兩種去除吸附污染物的方法。除流動氣體外，該樣品準備單元提供真空，通過加熱和疏散來準備樣品，每個站可以獨立操作，而不會影響其他正在處理的樣品。當樣品完成所有脫氣步驟后，脫氣將自動終止，Chiller Dewar為高表面積銅線圈構(gòu)成的封閉循環(huán)裝置，保證了杜瓦瓶與循環(huán)液體之間的高效熱交換。溫度則通過外配的循環(huán)浴來控制，CO2、N2和其他氣體吸附分析。該裝置能夠以小的電流需求量快速制冷且有效地維持溫度。