真空等離子清洗機(jī)利用等離子高能粒子與材料表面發(fā)生物理和化學(xué)反應(yīng)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面進(jìn)行、蝕刻、除污等工藝處理，以及對(duì)材料的摩擦因數(shù)、粘合和親水等各種表面性能進(jìn)行改良的目的。

產(chǎn)品功能：

1、對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物（如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進(jìn)行超清洗。

2、改變某些材料表面的性能。

3、使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。

4、清除金屬材料表面的氧化層。

5、對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。

真空等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)：

1、儀器具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。

2、對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。

3、清除樣品表面的有機(jī)污染物。

4、定時(shí)處理、快速處理、清洗效率高。

5、綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無(wú)二次污染。

6、在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)樣品非破壞性處理。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1、光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。

2、清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3、移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。

4、清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

5、清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。

6、高分子材料表面的修飾。

7、封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和。

8、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

9、涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

10、牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。

11、醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌。