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等離子電暈處理機(jī)

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更新時(shí)間:2024-09-11 07:03:50瀏覽次數(shù):4799

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產(chǎn)品簡介

等離子電暈處理機(jī)要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用"達(dá)到去除物體表面污漬的目的。過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面

詳細(xì)介紹

等離子電暈處理機(jī)主要特點(diǎn):

等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。
對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。
等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。
等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。。

常用的氣體為:純凈空氣、氧氣、、氬氣、氮?dú)?、混合性氣體、CF4等。適度的較長時(shí)間(15分鐘以上)的等離子處理,材料表面不但被活化還會被刻蝕,使之具有*的浸潤能力。

等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。
對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。
等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。
等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

二、控制系統(tǒng):觸摸屏 PLC自動控制 
進(jìn)氣系統(tǒng):2—5路工作氣體可選:Ar2、N2、H2、CF4、O2 
特 點(diǎn):高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的 
用 途:適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域,硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。

1、印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。
2、半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗 
3、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域:硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化 

可用PTL plasma清除方式改變BGA有機(jī)基板等的表面性質(zhì) 
●LCD的ITO電極清洗;洗ITO電極后會提高ACF的粘貼強(qiáng)度。 
●COF(ILB)接合面的清洗;清洗與芯片(Chip)接合的薄膜基板上之各處。 
●OLB(FOG)接合面的清洗;清洗LCD/PDP面板與薄膜基板間的接合面。 
●COG的清洗;將激勵I(lǐng)C直接安裝在玻璃基板前的清洗。 
薄膜基板的清洗;清除附翍在薄膜基板上的有機(jī)污染物。 
●金屬基板的清洗;清除附翍在接合部份上的有機(jī)污染物,以提高密封樹脂的剪斷強(qiáng)度。 
●晶片的感光性薄膜;用等離子除去晶片上的感光薄膜(保護(hù)膜)。 
●BGA基板與粘結(jié)墊的清洗;由于粘結(jié)墊的清洗,提高引線粘結(jié)性以及密封樹脂的剪斷剝離強(qiáng)度。 
●CPS的清洗;清除倒轉(zhuǎn)式芯片(Chip)和與CSP焊接球部接觸面上的有機(jī)污染物。 
●合芯片包的清洗;清洗復(fù)合電子部件的接觸部份。

主要應(yīng)用領(lǐng)域:手機(jī)外殼、筆記本電腦、汽車保險(xiǎn)杠、安全氣囊等各種ABS、PC材料的客體噴涂前的表面預(yù)處理。LCD大氣輝光寬幅等離子清洗機(jī)

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