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產(chǎn)品分類品牌分類

檢測系統(tǒng): 飛行時間二次離子質譜儀 TOF-MS飛行時間質譜儀

刻蝕系統(tǒng): RIE反應離子刻蝕系統(tǒng) ICP及DRIE刻蝕系統(tǒng) IBE離子束刻蝕系統(tǒng) RIE-PE刻蝕機

沉積系統(tǒng): 進口光學鍍膜機 TE熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 磁控濺射系統(tǒng) PECVD等離子化學氣相沉積系統(tǒng) PLD脈沖激光沉積

生長系統(tǒng): MOCVD設備 ALD原子層沉積系統(tǒng) MOVPE設備

清洗去膠系統(tǒng): 等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng) 單晶圓/掩模版兆聲清洗機大基片清洗/去膠/濕法刻蝕 MW微波等離子清洗去膠系統(tǒng) 離子束清洗系統(tǒng) 研發(fā)用等離子去膠機

熱真空試驗系統(tǒng): 熱真空試驗箱熱真空環(huán)境模擬試驗設備空間環(huán)境模擬試驗設備熱真空系統(tǒng)

核心組件: Platens樣品臺等離子體源

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微波等離子清洗機在封裝工藝中的應用及產(chǎn)品特點

時間：2016-6-15閱讀：2629

微波等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

微波等離子清洗機在封裝工藝中的應用：

1. 防止包封分層

2. 提高焊線質量

3. 增加鍵合強度

4. 提高可靠性，尤其是多接口的封裝

5. 提高產(chǎn)能

6. 節(jié)約成本

微波等離子清洗機產(chǎn)品特點

微波等離子清洗機設備的優(yōu)勢：

1. 先進微波技術

2. 無電極等離子發(fā)生器和高密度自由基使料盒內部清洗處理達到高度一致性

3. 定制等離子反應器

4. 氣體輸入和泵速的控制

5. 離子密度高，一致性好

6. 在線兼容

7. 優(yōu)化加工條件



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