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NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 T...

LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻...

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...

SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...

NRE-4000（ICPA）全自動ICP刻蝕系統(tǒng)：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪?..

NRE-4000（ICPM）ICP等離子刻蝕機：是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪崿F(xiàn)范圍廣泛的刻...

NDR-4000（A）全自動DRIE深反應離子刻蝕：全自動上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪...

NDR-4000（M）DRIE深反應離子刻蝕：是帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8“ ICP源。系統(tǒng)配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝...

NPC-4000（M）等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光...

NPC-4000（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶...

NPC-3500（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶...

NPC-3500（M）等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光...

NPC-3000等離子去膠機（刻蝕機）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠剝...

NRE-3000 反應離子刻蝕機：PC控制的RIE反應離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔...

NRE-3500（A）全自動反應離子刻蝕機：自動上下栽片，PC控制的RIE反應離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜，13“頂蓋式圓柱形鋁腔...

NRE-3500（M）反應離子刻蝕機：PC控制的反應離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體...

NRE-4000（M）反應離子刻蝕：獨立式RIE系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口...