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蔡司MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡
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  • 蔡司MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡

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貨物所在地: 廣東深圳市
更新時間: 2024-07-18 13:47:10
期: 2024年7月18日--2025年1月18日
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(聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

產品簡介

蔡司MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡
------從成像到全套實驗室應用:*亞納米級分析能力
ZEISS的MERLIN Compact場發(fā)射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設計,具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能;創(chuàng)新的InlensDuo探測器設計是目前世界上*真正的內置鏡筒電子束光路上的探測器,其具有Z佳的靈敏度和Z高的接收效率。

詳細介紹

蔡司MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡使用未來的實驗室分析儀器

 借助 MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡,即可在數(shù)秒內完成圖像采集,觀察清晰的原子級分辨率圖像及進行完整的三維表面測量與分析。無論是配備性能出色GEMINI I 鏡筒的入門型 MERLIN Compact 電鏡,或是配備高分辨率 GEMINI II鏡筒的型 MERLIN 電鏡,MERLIN 系列均是未來穩(wěn)固投資的*之選:場發(fā)射掃描電鏡協(xié)助您更好地應對未來工作中的各種挑戰(zhàn)。15 個探測器端口和多個分析選擇,為用戶提供靈活性和擴展性。

 MERLIN 系列易于擴展,以適應不斷增長的需求
MERLIN 系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)可以采集高分辨圖像,做成份分析,獲取樣品全部信息。樣品室配有用于安裝探測器和多種分析功能選項的 15 個端口,協(xié)助您完成從圖像采集到完整的材料分析等一系列工作。根據(jù)應用需求進行功能擴展:MERLIN 系列具備全面的可升級性。

蔡司MERLIN 系列場發(fā)射掃描電鏡應用無極限
 使用原子力顯微鏡功能選項,以原子級分辨率獲取半導體樣品的表面結構信息。通過增加 3View® 超
微切機實現(xiàn)大體積生物樣本的三維重構。MERLIN系列的平臺設計與智能化探測器技術,隨時可借助即插即用擴展功能實現(xiàn)系統(tǒng)升級。開放式的系統(tǒng)軟件編程接口,可快速地整合市場上的分析解決方案。

全面便捷的樣品分析
 MERLIN 系列的整套探測系統(tǒng)由不同探測器組成:in-lens 二次電子探測器用于高分辨率成像、能量選擇背散射探測器(EsB)用于低電壓成份襯度成像、in-lens duo 探測器用于二次電子和背散射電
子成像,或角度選擇背散射探測器(AsB)用于晶體表面的結構分析。適合對各種材料進行單獨的分析,或與探測器信號一起獲取更豐富的圖像信息。這些只需根據(jù)應用選配一個或多個探測器便可實現(xiàn)。

原子力顯微鏡:獲取深度圖像
 如若需要進行納米級表面成像,掃描電子顯微鏡(SEM)則是您的*。然而,所收集到的數(shù)據(jù)往往會缺失一些附加信息:表面三維結構的呈現(xiàn),或者是在低于納米級的原子尺度上還需要什么信息?
整合了 AFM 功能的 MERLIN 系列讓這類問題迎刃而解。AFM 系統(tǒng)可借助樣品臺更換功能在幾分鐘內提供原子級表面形貌的三維圖像。由于 AFM 技術是在原子尺度上進行校正的,可為掃描電子顯微鏡用戶提供所需分辨率。
 與獨立的 AFM 系統(tǒng)相比,AFM/SEM 的結合使用能提供更豐富的信息:SEM 提供的高分辨率大面積預覽,可快速地將懸臂系統(tǒng)直接移至感興趣的區(qū)域。使用方便又高效。通過兩種方式的結合使用獲得更多的信息,例如通過 AFM 檢測電子束對半導體電勢的影響。

【技術參數(shù)】

分辨率:0.8nm @ 15kV

        1.6nm @ 1kV

放大倍數(shù):范圍: 12~2,000,000×
加速電壓:調整范圍:20 V~30 kV
探針電流:5 pA~20 nA(12pA—100nA可選)
樣品室:330(φ) x 270mm(h)
樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動    X=130 mm
           Y=130 mm    Z=50 mm
           T=-3°- 70°
           R=360 °連續(xù)

 系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標、鍵盤、控制面板控制功能:掃描電鏡可對金屬、陶瓷、礦物、巖石、生物等樣品以及各種固體材料進行觀察和分析研究。對各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體/晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。X-射線能量色散譜儀(EDS),可進行微區(qū)的常量元素定性和定量分析。EBSD相關配件可以做t-EBSD 花樣質量圖、相分布圖、取向分布圖、制圖以統(tǒng)計晶粒大小、高角度分辨率 t-EBSD 分布圖檢測變形帶、同步采集 EDS獲得Cu 、Mg等元素分布圖、夾雜物等方面的分析。

  目前,掃描電鏡及相關附件已完成了電鏡、EDS、EBSD等主要設備的安裝調試及培訓,后續(xù)將盡快完成原位拉伸臺的安裝培訓,以及SPT-20離子濺射儀、WT-DJ02電解拋光等制樣設備的安裝調試等工作。

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