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如何解決半導(dǎo)體圓晶生產(chǎn)過程中清潔效果不一致出現(xiàn)的問題
2022-11-18 閱讀(674)
如何解決半導(dǎo)體圓晶生產(chǎn)過程中清潔效果不一致出現(xiàn)的問題
半導(dǎo)體間歇式清洗設(shè)備清洗液成分配比不穩(wěn)定,清洗效果不一致。
我在半導(dǎo)體晶圓制造現(xiàn)場,但我在清潔過程中遇到了一些問題。
在批量清洗中,有些成分會蒸發(fā),尤其是在液體達(dá)到高溫的情況下。
但由于是液體,易蒸發(fā),易起泡,普通的計量泵會造成氣鎖。
它還要求定量、清潔和耐腐蝕。
我們推薦具有高分配性能并且每次注射能夠注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。
在這種情況下,我們推薦每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵"。
CFD 型泵具有氣泡容易排出的結(jié)構(gòu),因此氣泡不會留在泵內(nèi)。
此外,接液部采用氟樹脂制成,是一款清潔度高、耐腐蝕的泵。此外,CFD-1T-B 型號具有 1 mL/shot 的出色分辨率,適合保持化學(xué)溶液的成分比恒定。基于以上原因,我們認(rèn)為“CFD型泵"可以解決半導(dǎo)體間歇式清洗設(shè)備的清洗液問題。請考慮這個機會。
1 mL 1 shot,高精度控制晶圓清洗液濃度化學(xué)品補給泵CFD
• 所有接液部件均由氟樹脂制成,與酸、堿、氫等化學(xué)品兼容
• 行程長度可輕松調(diào)節(jié),每次最多可排放2.7 mL
• 泄漏傳感器是標(biāo)準(zhǔn)配置 設(shè)備