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產(chǎn)地類別	進(jìn)口	價格區(qū)間	面議
儀器種類	四極桿質(zhì)譜	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥

IONOPTIKA C60-20S 離子源系統(tǒng)

雖然所有離子束都會濺射或蝕刻，但我們的一些系統(tǒng)的表面是專為高效和快速濺射而設(shè)計的。濺射光束有三個特點：高電流、大光斑尺寸和寬視場。這些特性的結(jié)合意味著它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子，以優(yōu)化蝕刻速率。

簡介：

C60-20S是一種高性能離子束，設(shè)計用于濺射表面，具有較小的損傷和減少的沿周濺射效應(yīng)。

C60-20S在高達(dá)20 kV的電壓下工作，可有效地濺射材料，且損傷較小，無需重新沉積碳。

C60是XPS、AES和SIMS的理想升級組件，可在多種材料上均勻濺射。

主要參數(shù)：

特點:

◇ 電流密度高，蝕刻速度更快；

◇ 與單原子束相比，可減少化學(xué)損傷；

◇ 不同材料和晶體取向的濺射率一致；

◇ 閘閥，便于快速維修；

◇ 源壽命長；

應(yīng)用領(lǐng)域：

◇ 聚合物的高速、低化學(xué)損傷蝕刻；

◇ C60離子濺射的速度比單原子束(包括氬和氙)快50倍，同時對底層材料造成的損害要小得多；

◇ 下圖比較了15kevC60濺射產(chǎn)率與15kev金、氙鎵和氬的TRIM數(shù)據(jù)。在相反例子中，用C60和單原子氬離子束濺射清洗PTFE薄膜；

◇ 雖然兩種離子束都去除了表面污染，但只有C60離子束的表面化學(xué)性質(zhì)沒有發(fā)生變化；