PHI 硬X射線光電子能譜儀 參考價(jià)：面議
PHI 硬X射線光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(diǎn)(QDs)，結(jié)合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(...
俄歇電子能譜儀 參考價(jià)：面議
PHI公司的PHI 710俄歇電子能譜儀是一臺(tái)設(shè)計(jì)高性能的俄歇電子能譜（AES）儀器。該設(shè)備能分析納米級(jí)特征區(qū)域,超薄薄膜和多層結(jié)構(gòu)表界面的元素態(tài)和化學(xué)態(tài)信息。
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀 參考價(jià)：面議
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀PHI nano TOF3+，先進(jìn)的多功能TOF-SIMS具有更強(qiáng)大的微區(qū)分析能力，更加出色的分析精度
PHI X射線光電子能譜儀 參考價(jià)：面議
PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗(yàn)，儀器高性能、全自動(dòng)化、簡(jiǎn)單易操作。 操作界面可在同一個(gè)屏幕內(nèi)設(shè)置常規(guī)和高級(jí)的多功能測(cè)試參數(shù)，同時(shí)保留諸如進(jìn)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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