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AR-Meta 超表面光場檢測系統(tǒng)

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更新時間:2022-10-31 16:29:05瀏覽次數(shù):1604

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產(chǎn)品簡介

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光譜范圍 可見,380~1050nm / 900~1700nm,可切換nm 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子
AR-Meta 超表面光場檢測系統(tǒng) 采用 消除像差 的光學設(shè)計,以商用設(shè)備實現(xiàn) μm 量級超表面器件的原位、寬譜段的透 / 反射光場測量,并提供焦距、成像分辨率、點擴散函數(shù)、調(diào)制傳遞函數(shù)、斯特列爾比、數(shù)值孔徑、偏折效率等關(guān)鍵測量指標分析。結(jié)合豐富的偏振器件,為您帶來一款“專業(yè)化"的超表面與超透鏡光場檢測平臺。

詳細介紹


AR-Meta 超表面光場檢測系統(tǒng)

典型應(yīng)用領(lǐng)域:
超表面器件 超表面器件在空間上具有復(fù)雜的光場調(diào)控能力,需要在微米尺度下掃描光場。
超透鏡 受限于設(shè)計規(guī)模和微納加工能力,超透鏡難以實現(xiàn)較大口徑。面向折射型透鏡的傳統(tǒng)檢測工具已無法滿足該類器件的光學性質(zhì)表征需求,針對超透鏡特點設(shè)計的檢測平臺應(yīng)運而生。
微透鏡 口徑在數(shù)百微米以下的微透鏡及陣列,在集成光學中已開始發(fā)揮重要作用,受限于透鏡口徑,當前缺乏商用化的微透鏡光學指標檢測平臺。
      
  AR-Meta 超表面光場檢測 在以上領(lǐng)域的應(yīng)用得益于如下幾個特點:1.μm 量級測量區(qū)域  AR-Meta 基于 Olympus 商用顯微平臺,配合消除像差的準直及成像光路,實現(xiàn)了 μm 量級超表面器件光場檢測; 2.超過 7 項關(guān)鍵指標  圍繞超表面器件及超透鏡領(lǐng)域的研究熱點,AR-Meta 形成了焦距、成像分辨率 (含角向分辨率)、點擴散函數(shù) (PSF)、調(diào)制傳遞函數(shù) (MTF)、斯特列爾比 (Strehl Ratio)、數(shù)值孔徑 (N.A.)、偏折效率 (Deflection Efficiency) 等超過 7 項衡量器件光學性質(zhì)的關(guān)鍵指標;3.寬 380~1700nm 譜段  AR-Meta 內(nèi)部支持兩個譜段:可見和近紅外 (含 850nm,1310nm,1550nm),并通過高穩(wěn)定切換部件實現(xiàn)了兩者的切換,與之匹配的是可以通過外部接口,引入多種波長的激光光源;4.反射 + 透射  AR-Meta 具有獨立的反射與透射兩套光路,能夠輕松實現(xiàn)反射情況下 0~20mm 縱深,透射情況下 0~2mm 縱深的光場掃描; 5.工程化設(shè)計  AR-Meta 在設(shè)計中充分考慮了光路切換的穩(wěn)定性,實現(xiàn)了控制的自動化,保障良好用戶體驗;6.除此之外,內(nèi)秉的線偏振與圓偏振器件,多種濾色片的選擇等,使 AR-Meta 的應(yīng)用覆蓋了超表面檢測所需要的多數(shù)場合。

 復(fù)享超表面光場檢測系統(tǒng)的相關(guān)參考文獻 
? "Metalenses at visible wavelengths: Diffraction-limited focusing and subwavelength resolution imaging." Science (2016).
影響因子:37.205,單位:哈佛大學/工程與應(yīng)用科學學院,通訊作者:Federico Capasso1
? "A broadband achromatic metalens in the visible." Nature Nanotechnology (2018).
影響因子: 33.407,單位:臺北應(yīng)用科學研究中心/中央研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Achromatic metalens bandwidth in the visible and metalens with reverse chromatic dispersion." Nano Letters(2017).
影響因子: 12.712,單位:哈佛大學/工程與應(yīng)用科學學院,通訊作者:Federico Capasso1
? "Metalenses: Advances and Applications." Advanced Optical Materials (2018).
影響因子:7.143,單位:臺北應(yīng)用科學研究中心/中央研究院,通訊作者:Din Ping Tsai
? "Imaging Performance of Polarization-Insensitive Metalenses." ACS Photonics (2019).
影響因子:7.143,單位:加州大學河濱分校/化學系,通訊作者:Manuel Decker

 

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