一、激光粒度分布儀HYL-1076型產(chǎn)品介紹    

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產(chǎn)品參數(shù)

激光粒度分布儀HYL-1076型技術(shù)參數(shù)：
（1）測(cè)試范圍：0.1um～500um
（2）光源：半導(dǎo)體激光器（波長(zhǎng)635 nm、功率3mw、累積使用壽命25000小時(shí)以上）
（3）測(cè)試方式：濕法測(cè)試
（4）重復(fù)性誤差：優(yōu)于1%（國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50均方差）
（5）準(zhǔn)確性誤差：優(yōu)于1%（國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50均方差）
（6）獨(dú)立光電檢測(cè)單元數(shù)：76個(gè)
（7）樣品濃度：0.5‰～1%（與樣品的比重、顆粒大小、折射率有關(guān)）
（8）測(cè)試時(shí)間：少于1分鐘/次，不含樣品分散時(shí)間
（9）掃描速度：2000次/秒
（10）電源：交流220V±10%50Hz或60Hz，功率：80W
（11）環(huán)境要求：溫度：5℃～35℃濕度：<85%
（12）微機(jī)接口：標(biāo)準(zhǔn) RS-232串行接口
（13）操作系統(tǒng)：可在Windows95及以上版本的操作系統(tǒng)下運(yùn)行

HYL-300型循環(huán)送樣器技數(shù)參數(shù):
（1）運(yùn)行方式:蠕動(dòng)泵
（2）流量:1850ml/分
（3）攪拌系統(tǒng):攪拌轉(zhuǎn)數(shù)(100-600轉(zhuǎn)可調(diào))
（4）超聲系統(tǒng):45W
（5）超聲定時(shí):1秒-99.59分
（6）電機(jī)轉(zhuǎn)數(shù):300轉(zhuǎn)/分
（7）電源:交流220V50Hz或60Hz,功率:70W

激光粒度分布儀HYL-1076型產(chǎn)品特點(diǎn)

1、 HYL-300型循環(huán)送樣器(選配件)
HYL-300型循環(huán)送樣器內(nèi)制超聲、循環(huán)、攪拌、超聲定時(shí)功能.循環(huán)系統(tǒng)采用了蠕動(dòng)泵的方式，不會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生任何污染，保證了測(cè)試數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。HYL-1076型激光粒度儀有微量樣品池與循環(huán)樣品池兩種進(jìn)樣方式，微量樣品池是針對(duì)一些需要用有機(jī)溶劑做介質(zhì)的樣品而特殊設(shè)計(jì)；循環(huán)樣品池通常用于測(cè)試水做介質(zhì)的樣品，而且這兩種進(jìn)樣方式無須調(diào)換，使用非常方便。
2、功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)
HYL-1076型激光粒度分布儀系統(tǒng)是集光、機(jī)、電、計(jì)算機(jī)為一體的高科技產(chǎn)品,數(shù)據(jù)處理有的計(jì)算機(jī)分析系統(tǒng)軟件完成，同時(shí)由打印機(jī)完成測(cè)試報(bào)告的輸出。
3、*的光路一體化技術(shù)
優(yōu)化的反傅立葉光學(xué)變換設(shè)計(jì),結(jié)合*的光路一體化結(jié)構(gòu)，使光路更加穩(wěn)定，長(zhǎng)期使用，無須調(diào)整；*機(jī)械設(shè)計(jì)與加工工藝，使儀器的結(jié)構(gòu)更緊湊合理；流線型的設(shè)計(jì)，美觀大方，使用與維護(hù)更為方便；有效的屏蔽與抗干擾技術(shù)，使儀器的電氣等性能更加穩(wěn)定。
4、高靈敏大角度光電接收器陣列
*的光電接收器陣列設(shè)計(jì)，有效提高了儀器的分辨率。主向光電接收器，共有71個(gè)光電池，*大探測(cè)角達(dá)21.5o；非均勻交叉排列的側(cè)向光電接收器,共5個(gè)光電池，其中，*大側(cè)向角度達(dá)70o。
5、長(zhǎng)久耐用
采用波長(zhǎng)635nm,功率3mw半導(dǎo)體激光器，使用壽命在25000個(gè)小時(shí)以上有效提高了激光粒度分布儀的使用和存放時(shí)間。
6、優(yōu)秀的H.Golub分布反演算法
HYL系列激光粒度測(cè)試系統(tǒng)*采用*全Mie散射理論作為基礎(chǔ)，并采用優(yōu)良的H.Golub分布反演算法，結(jié)合*的儀器硬件設(shè)計(jì),使您測(cè)試的樣品無論是單分布的，還是混合的，都能夠使測(cè)試數(shù)據(jù)更加精確、快捷。
7、輸出結(jié)果格式靈活
報(bào)告單格式的輸出格式靈活，可根據(jù)使用者的需要,編輯包括累計(jì)粒度分布數(shù)據(jù)與曲線、區(qū)間粒度分布數(shù)據(jù)與直方圖、各種典型粒徑值等內(nèi)容。