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光學(xué)鍍膜橢偏儀

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更新時(shí)間:2024-01-19 14:25:55瀏覽次數(shù):2013

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應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,電氣
光學(xué)鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等??蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

詳細(xì)介紹

  名稱:光學(xué)鍍膜橢偏儀

  型號(hào):ME-L

  品牌:頤光

  在手機(jī)蓋板中的應(yīng)用光學(xué)鍍膜就好比女士化妝,不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮,也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用,所以在如今這個(gè)“看臉"的時(shí)代,蓋板的光學(xué)鍍膜是非常重要的,目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應(yīng)用。

  光學(xué)鍍膜橢偏儀蓋板光學(xué)鍍膜痛點(diǎn)分析

  1、AR膜透過(guò)率不合格NG

  2、顏色膜調(diào)色困難,周期長(zhǎng)。

  3、量產(chǎn)過(guò)程產(chǎn)品不穩(wěn)定,存在色差。

  橢偏儀在光學(xué)鍍膜各階段的作用造成蓋板光學(xué)鍍膜產(chǎn)品不良的主要因素在于:

  A;仿真設(shè)計(jì)調(diào)用材料折射率與鍍膜生產(chǎn)中實(shí)際材料折射率不符。

  B;鍍膜設(shè)備實(shí)際鍍層厚度與膜系設(shè)計(jì)要求不符。

  C;量產(chǎn)過(guò)程對(duì)鍍膜設(shè)備穩(wěn)定性/均勻性缺乏有效評(píng)估手段。

  橢偏儀可以有效測(cè)量修正上述影響因子,為蓋板量產(chǎn)保駕護(hù)航。

  1.膜系設(shè)計(jì)——膜層實(shí)際折射率的標(biāo)定

  ★鍍膜實(shí)際折射率的影響因素:供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等

  ★橢偏儀可直接測(cè)量獲得薄膜材料的光學(xué)常數(shù)和薄膜厚度,因此通過(guò)鍍膜機(jī)在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜,可直接準(zhǔn)確測(cè)量獲得薄膜的光學(xué)常數(shù)。

  ★通過(guò)調(diào)整鍍膜機(jī)參數(shù),以橢偏儀測(cè)量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學(xué)常數(shù)為反饋,將薄膜材料光學(xué)常數(shù)調(diào)整至狀態(tài)。此時(shí)對(duì)應(yīng)的鍍膜機(jī)參數(shù)即為厚度鍍膜時(shí)所需設(shè)定的終參數(shù)。

  2.工藝研發(fā)——鍍膜設(shè)備tolling校正

  ★通常來(lái)說(shuō),鍍膜機(jī)通過(guò)晶振來(lái)控制鍍膜厚度,而實(shí)際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足,導(dǎo)致實(shí)際鍍膜厚度與設(shè)定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機(jī)中,可通過(guò)工具因子(Tooling值)控制鍍膜機(jī)的蒸鍍速率,進(jìn)而可對(duì)實(shí)際鍍膜厚度進(jìn)行調(diào)控。

  ★橢偏儀可以準(zhǔn)確測(cè)量獲得薄膜的厚度,因此可用于校正鍍膜機(jī)的工具因子(Tooling值),使實(shí)際鍍膜厚度與設(shè)定鍍膜厚度*。

  3.量產(chǎn)監(jiān)控——實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)各項(xiàng)鍍膜指標(biāo):

  ★鍍膜膜厚是否在設(shè)計(jì)范圍。

  ★材料折射率有無(wú)顯著波動(dòng)。

  ★透過(guò)率是否滿足工藝需求。

  ★色度值是否滿足工藝需求。

  ★反射率是否滿足工藝需求。

  售后服務(wù):

  1、廠家貨源正品貨源有保障,可以根據(jù)客戶不同測(cè)試需求,提供不同測(cè)試方案。

  2、關(guān)于售后4小時(shí)電話響應(yīng),24小時(shí)內(nèi)安排上門服務(wù)。終生維護(hù)。

  3、關(guān)于發(fā)貨到款4-5天內(nèi)到貨,江蘇、深圳區(qū)域第二天可以到貨。


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