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NP-CMP化學機械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP（化學機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
NP-CMP化學機械拋光液制備設(shè)備經(jīng)過測試的工藝路線，已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)The tested process route has achieved mass production ；
智能控制，實時監(jiān)測，完整數(shù)據(jù)存儲，直觀顯示圖、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables；
轉(zhuǎn)速可調(diào)，溫度可控，超聲波強度可調(diào)，可定時Rotating speed adjustable， Temperature controlled， Ultrasonic intensity adjustable， Timed ；
操作方便簡潔，清洗容易 Easy and simple operation，easy to clean。
NP-CMP化學機械拋光液制備設(shè)備 參數(shù)：
Items | 實驗型Experiment Type | 生產(chǎn)型Production Type |
溫度Temperature（℃） | -30℃~80℃ | -20℃~80℃ |
分散方式Dispersion Type | 連續(xù)式continuous | 連續(xù)式continuous |
材質(zhì)Material quality | 玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel | 不銹鋼、鈦stainless steel |
規(guī)格Specification | 依容積depend on volume | 定制customized |
流量Flow rate | 50~1000ml/min | 可定制customized |
介質(zhì)粘度media viscosity | ≤104cP | ≤104cP |
攪拌轉(zhuǎn)速agitation speed | 500~3000rpm依實際需求選擇 | 500~3000rpm依實際需求選擇 |
剪切轉(zhuǎn)速agitation speed | 1400~20000rpm依實際需求選擇 | 1400~12000rpm依實際需求選擇 |
電源Power | 220V/50Hz | 220V/50Hz 、380V/50Hz |
超聲功率Ultrasonic power | 200~3000W | 定制customized |
超聲頻率Ultrasonic Frequency | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz |
顯示方式Display model | 數(shù)顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據(jù)需要可選擇 | 液晶觸摸屏LCD touch screen |
溫度、功率可調(diào)Temperature、power adjustment NP(納威科技)是一家研發(fā)、制備、定制微納米、新能源等材料的反應、分散、整條產(chǎn)線等設(shè)備及清洗設(shè)備的高科技公司。 公司產(chǎn)品開發(fā)遵循“智能化、模塊化、連續(xù)化、小型化"的設(shè)計原則，堅持“設(shè)計制造最合適的設(shè)備來滿足用戶的工藝條件"、和“真心為客戶提供最佳的解決方案和服務"的理念，開發(fā)出來的系列微納米材料合成、反應設(shè)備、微納米材料高效分散設(shè)備廣泛適用于納米Ni、Ag、Cu、FePO4、MnO2、ZrO2、TiO2、Mg(OH)2、SiO2、磷酸鐵、磷酸鐵鋰、三元等多種微納米材料的從實驗室研究、小試、中試放大、直到工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應用。包括有：1、標準的實驗室使用的反應設(shè)備、分散設(shè)備、攪拌設(shè)備、研磨設(shè)備、清洗設(shè)備等；2、定制各種實驗室設(shè)備；3、定制實驗室成套設(shè)備；4、定制中試設(shè)備；5、量產(chǎn)設(shè)備等。 | ||
