目錄:深圳摩方新材科技有限公司>>精密加工>>光刻技術>> nanoArch S130光刻技術
| 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 | 光學精度 | 2μm |
|---|---|---|---|
| 打印材料 | 光敏樹脂 | 打印層厚 | 5-20μm |
| 最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、3D光刻技術介紹
摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
在三維復雜結(jié)構(gòu)微納加工領域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經(jīng)驗，針對客戶在項目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡易高效的技術支持方案。
二、3D光刻技術功能介紹
*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強、功能更強大的零部件；
能夠打印工業(yè)級復合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。
三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
工業(yè)級復合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
5
化工儀器網(wǎng)