目錄:青島天仁微納科技有限責(zé)任公司>>納米壓印配套設(shè)備>> GL Plasma等離子體清洗設(shè)備
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更新時(shí)間：2025-02-20 15:09:48瀏覽次數(shù)：668評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化，提升附著力和清洗等工藝。
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性
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