PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm-昊然

靜電紡絲作為一種簡(jiǎn)便的生產(chǎn)高分子納米纖維的加工技術(shù)，用于制備低模量、高柔順性、高強(qiáng)度的可降解高分子纖維材料是一個(gè)重要的科學(xué)課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術(shù)縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動(dòng)醫(yī)學(xué)和生物學(xué)的發(fā)展與進(jìn)步。

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm-昊然

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

納米纖維是指直徑為納米尺度而長(zhǎng)度較大的線狀材料,可用于微導(dǎo)線、微光纖材料,激光或發(fā)光二極管等材料,具有極廣泛的應(yīng)用前景。納米纖維可以通過(guò)靜電紡絲的方法制備,采用靜電紡絲技術(shù)不但可以在較短時(shí)間內(nèi)制備出大量長(zhǎng)而連續(xù)的納米纖維,而且制備的納米纖維具有高孔隙率,高比表面積等優(yōu)點(diǎn)。

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網(wǎng)格濾片150nm（厚度：600um）（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維網(wǎng)格濾片300nm（厚度：1000um）（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格濾片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）