PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm

靜電紡絲技術(shù)是目前制備納米纖維重要的基本方法。這一技術(shù)的核心是使帶電荷的高分子溶液或熔體在靜電場(chǎng)中流動(dòng)并發(fā)生形變,然后經(jīng)溶劑蒸發(fā)或熔體冷卻而固化，于是得到纖維狀物質(zhì)，這一過程簡(jiǎn)稱電紡。

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm

網(wǎng)格空隙：400um

靜電紡絲是制備納米纖維的一種主要方法,它是利用高壓電場(chǎng)使聚合物溶液或熔體產(chǎn)生帶電射流而形成納米纖維的過程。用靜電紡絲法制備的納米級(jí)纖維具有直徑小、比表面積大、孔隙率高等特點(diǎn),在組織工程支架、生物傳感器、過濾材料等方面有應(yīng)用。

介孔PLA纖維薄膜-納米微米級(jí)

多孔聚乳酸纖維薄膜

多孔PLGA納米纖維薄膜-納米載體

生物可降解組織支架-PLGA纖維納米薄膜

靜電紡絲聚已內(nèi)酯纖維薄膜-大孔

多孔PCL聚已內(nèi)酯聚合物納米纖維膜

孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架

多孔PCL納米纖維膜

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PS聚苯乙烯纖維復(fù)合網(wǎng)格

組織工程3D網(wǎng)格支架-PS聚苯乙烯材質(zhì)

聚苯乙烯PS-3D網(wǎng)格支架

聚苯乙烯PS-不同纖維直徑網(wǎng)格圓盤支架

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）