Filgen鋨等離子鍍膜儀是一種利用直流等離子體放電的負(fù)級輝光劉樣晶進(jìn)行鍍膜的等離子體CVD鍍膜機(jī)。傳統(tǒng)的金屬鍍膜設(shè)備，主要以重金屬為涂叢材料，如金、鉑、鈀等。采用這些方法，涂層本身的粒度問題無論如何都是不可避免的。同時，在高倍鏡下規(guī)察，這些方法所包覆的試樣無法避免SEM強(qiáng)電子?xùn)|照射引起的充電.熱損傷和污染，導(dǎo)致SEM圖像分辨率較低。

Filgen鋨等離子鍍膜儀優(yōu)點(diǎn)：

鋨薄膜

無晶粒:形成非晶態(tài)金屬鍍層

無熱損傷:涂層在室溫下進(jìn)行。

無電子束損傷:鋨的熔化溫度為2700C

無污染:涂層從真空狀態(tài)開始

等離子聚合薄膜

保膜耐FIB中使用的鎵離子束

耐熱絕緣薄膜

無晶粒形成非晶態(tài)金屬鍍層

無熱損傷:涂員在室溫下進(jìn)行

無電子束損傷

無污染：涂層從真空狀態(tài)開始

可用性

自動:設(shè)置完成后，按下開始按餓即可完成整個過程

直觀:涂層厚度是由厚度設(shè)置控制，而不是由放電時間鍍膜時間短:幾納米/幾秒

易更換操作系統(tǒng)：安瓿可拆卸儲液罐，觀察窗(用于檢查剩余操作系統(tǒng)數(shù)量)和儲液罐內(nèi)置安瓿切斷器

安全性

全自動減少人為失誤的機(jī)會

Os儲層的安全特性:氣口-體鎖緊銷和內(nèi)置安瓿切斷器

帶反應(yīng)室的聯(lián)鎖系統(tǒng):除非0s04耗盡，否則不能打開反應(yīng)室，當(dāng)反應(yīng)室打開時不能引入Os04

故障安全，以防止操作系統(tǒng)泄漏在電源關(guān)閉

鋨吸收過濾器：不需要任何機(jī)器