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GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動(dòng)離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！

描述

1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；

2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；

3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；

4、全自動(dòng)操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等；

濺射電流自動(dòng)調(diào)整—設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜±5%；

5、無需按“實(shí)驗(yàn)"鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進(jìn)氣閥"：

（1）濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類樣品一次設(shè)定即可；

（2）參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無需終止濺射過程；

（3）工作完成自動(dòng)放氣；

（4）樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成；

（5）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀；

（6）極限真空：小于1Pa；

6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：

（1）真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無法濺射；

（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；

（3）真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作；

7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。