雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng) 參考價:面議
雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術,具有自限性和自飽和。原子層沉積技...原子層沉積設備廠家 參考價:面議
原子層沉積設備廠家(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...原子層沉積系統(tǒng)廠家 參考價:面議
原子層沉積系統(tǒng)廠家(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...桌面式原子層沉積系統(tǒng) 參考價:面議
桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...粉末原子層沉積 參考價:面議
粉末原子層沉積(Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術,具...等離子體原子層沉積 參考價:面議
雙腔體等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應腔體內(nèi)并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術,具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要...