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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,汽車,電氣 |
|---|---|---|---|
| 控溫范圍 | RT+10~200℃ | 溫度分辨率 | 0.1℃ |
| 溫度波動度 | ±0.5℃ |
愛義信 HMDS烘箱 HMDS預(yù)處理烘箱愛義信 HMDS烘箱 HMDS預(yù)處理烘箱
產(chǎn)品應(yīng)用： 晶圓勻膠前襯底助黏、“增附”處理
對于大部分光刻膠與Si襯底而言，其粘附性一般都是不錯的，但是在光刻中，通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
以石英、玻璃或硅表面的氧化物（自然氧化）的形式存在的二氧化硅以及大多數(shù)金屬在暴露于大氣中在一定的下濕度足夠長時間后在其表面形成極性OH鍵。這種襯底是親水性的，因此對光刻膠的非極性或低極性樹脂分子具有較差的親和力。為了使這樣的襯底表面具有疏水性，可以用化學(xué)方法將HMDS等非極性分子附著在其表面上。
HMDS與Si原子在無氧表面結(jié)合，與氧化基表面的氧原子(如有必要，OH基團分解)結(jié)合，釋放出氨。非極性甲基直接隔離襯底表面形成疏水表面，與光刻膠具有良好的潤濕性和附著力。
工作原理：
在室溫下，HMDS蒸汽通過干燥的氮氣在“起泡器”中運輸，然后傳遞到加熱的(75-120°C)基質(zhì)中，在襯底表面上HMDS作為單層膜進行化學(xué)結(jié)合。
如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上，HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS層在前烘過程中釋放出氨，從襯底附近的進入交聯(lián)的光刻膠層中，從而抑制顯影過程。
產(chǎn)品特性：
外觀結(jié)構(gòu)：
★外殼采用A3冷軋鋼板裁剪、打磨、酸洗、磷化等表面防銹處理后烤漆，工作室采用SUS316#潔凈不銹鋼板滿焊、耐高溫密封處理，加強型結(jié)構(gòu)，確保箱體高壓無形變。
★工作室高氣密性，氣體泄漏量可達100pa/h。
★雙層防爆鋼化玻璃觀測窗，10mm防爆玻璃內(nèi)門。
★隔熱層采用100mm厚100K高密度硅酸鋁纖維保溫材料，保溫效果佳。
★門框密封采用無氟硅橡膠密封條，耐高溫，抗老化。
溫控系統(tǒng)：
★不銹鋼異性加熱器，環(huán)繞工作室外壁，四面加熱。
★7寸人機界面，PLC+PID+SSR控制，SSR無觸點等周期脈沖調(diào)寬，PID智能演算，自動恒溫，超溫抑制，傳感器斷線警報，斷電記憶，控溫精準，操控簡便。
★可依工藝設(shè)置多種運行模式
★高精度PT100不銹鋼鎧裝鉑金電阻溫度傳感器
安全系統(tǒng)：
★按鍵鎖
★HMDS液位報警
★超溫保護
★電流過載保護
★相序保護
★漏電保護
★接地保護
規(guī)格參數(shù)：
| 設(shè)備型號 Model | HMDS-1 |
| 控溫范圍 Operating Temp. Range | RT+10~200℃ |
| 溫度分辨率 Temperature resolution | 0.1℃ |
| 溫度波動度 Control stability | ±0.5℃ |
| 真空泵 Vacuum pump | 干式真空泵 4L/min |
| 真空度 Vacuum degree | ＜133pa（1mmHg/1.33mbar）/ ＞-1012mbar |
| 氮氣接口 Nitrogen interface | Φ8mm |
| 內(nèi)部尺寸 Chamber size | W450*D450*H450mm |
| 外部尺寸 Overall size | W1100*D800*H1500mm |
| 層架 Number of pallets | 2PSC |
| 電源 Power supply | AC380V 50HZ |
| 功率 Heating power | 3.5KW |
| 運行方式 Operation mode | PLC控制，手動設(shè)定工藝流程，自動運行 |
| 操作界面 Operation interface | 7寸觸摸屏HMI人機界面控制器（可編程，帶歷史曲線、USB轉(zhuǎn)存儲功能） |
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